マルチビーム薄膜形成装置の開発
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概要
著者
-
田村 繁治
(独)産業技術総合研究所光技術研究部門
-
村井 健介
産総研光技術
-
梅咲 則正
高輝度光科学研究センター
-
梅咲 則正
大阪工業技術研究所光機能材料部
-
松尾 二郎
京都大学工学研究科附属量子理工学研究実験センター
-
松尾 二郎
京都大学 大学院工学研究科 附属量子理工学教育研究センター
-
村井 健介
大阪工業技術院
-
山田 公
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
-
田村 繁治
大阪工業技術研究所
-
安本 正人
大阪工業技術研究所
-
中野 博彦
(株)サムコインターナショナル研究所
-
立田 利明
(株)サムコインターナショナル研究所
-
山田 公
京大
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安本 正人
(独)産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
-
中野 博彦
サムコインターナショナル研 開発部
-
立田 利明
サムコインターナショナル研
-
村井 健介
大阪工業技術研究所
-
山田 公
京都大学
-
梅咲 則正
大阪工業技術研究所
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- ガスクラスターイオンビームを用いた半導体表面処理技術の開発
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- サマリー・アブストラクト
- ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術
- 同心円多層膜のX線光学系への応用
- クラスターイオンビーム技術の最近の進展
- 反応性クラスターイオンビームによるエッチング
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