松尾 二郎 | 京都大学 大学院工学研究科 附属量子理工学教育研究センター
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概要
関連著者
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松尾 二郎
京都大学 大学院工学研究科 附属量子理工学教育研究センター
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青木 学聡
京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
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山田 公
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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山田 公
京大
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青木 学聡
クラスターイオンビーム集中研究体
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山田 公
京都大学
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瀬木 利夫
京都大学 大学院工学研究科 原子核工学専攻
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二宮 啓
山梨大学大学院 医学工学総合研究部
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松尾 二郎
京都大学工学研究科附属量子理工学研究実験センター
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Aoki Takaaki
Department Of Electronic Science And Engineering Kyoto University
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中田 由彦
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
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二宮 啓
京大院工QSEC
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中田 由彦
京大院工QSEC
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伊藤 秋男
京大院工
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豊田 紀章
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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高岡 義寛
京都大学工学部イオン工学実験施設
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二宮 啓
京大工
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松尾 二郎
京大工
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松尾 二郎
京都大学大学院工学研究科附属量子理工学研究実験センター
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川下 将一
東北大 大学院医工学研究科
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高岡 義寛
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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中田 由彦
京大工
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松尾 二郎
京大院工
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青木 学聡
京大院工QSEC
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瀬木 利夫
京都大学工学研究科付属イオン工学実験施設
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市木 和弥
京大工
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青木 学聡
京大工
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青木 学聡
京都大学工学研究科付属イオン工学実験施設
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竹内 大輔
京都大学工学部付属イオンエ学実験施設
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川下 将一
京都大学大学院光学研究科附属イオン工学実験施設
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瀬木 利夫
京大工
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市木 和弥
京大院工QSEC
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瀬木 利夫
京大院工QSEC
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松尾 二郎
京大院工QSEC
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本田 善郎
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
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瀬木 利夫
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
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青木 学聡
京都大学大学院工学研究科電子工学専攻
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土田 秀次
京大院工
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伊藤 秋男
京大工
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INSEPOV Zinetulla
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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田能村 昌宏
京都大学工学部付属イオン工学実験施設
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島田 規広
京都大学工学部付属イオンエ学実験施設
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木谷 博昭
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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松尾 二郎
京大 イオン工学
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山田 公
京大 イオン工学
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本田 善郎
京大工
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平井 信充
京都大学工学部イオン工学実験施設
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石田 昌宏
京都大学工学部イオン工学実験施設
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田能村 昌宏
京都大学工学部附属イオン工学実験施設
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今井 誠
京大院工
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柴田 裕実
京大院工
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田村 繁治
(独)産業技術総合研究所光技術研究部門
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後藤 賢一
富士通株式会社 次世代lsi開発事業部
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北垣 卓
京大院工
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土田 秀次
京大院工QSEC
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小川 英巳
奈良女大理
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坂本 直樹
奈良女大理
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杉井 寿博
(株)富士通研究所
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村井 健介
産総研光技術
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梅咲 則正
高輝度光科学研究センター
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小久保 正
京都大学工学部材料化学教室
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梅咲 則正
大阪工業技術研究所光機能材料部
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宮路 史明
京都大学工学部
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小久保 正
京都大学化学研究所
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小久保 正
京都大学工学研究科
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川下 将一
東北大学大学院医工学研究科
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村井 健介
大阪工業技術院
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中村 守孝
富士通
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田村 繁治
大阪工業技術研究所
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安本 正人
大阪工業技術研究所
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中野 博彦
(株)サムコインターナショナル研究所
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立田 利明
(株)サムコインターナショナル研究所
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草場 拓也
京都大学工学研究科付属イオン工学実験施設
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加勢 正隆
富士通(株)ULSI開発部
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後藤 賢一
(株)富士通研究所
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山田 公
京都大学イオン工学実験施設
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松尾 二郎
京都大学イオン工学実験施設
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豊田 紀章
京都大学イオン工学実験施設
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青木 学聡
京都大学イオン工学実験施設
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山田 公
京都大学 イオン工学実験施設
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豊田 紀章
京都大学 イオン工学実験施設
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川下 将一
京都大学工学部材料化学教室
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス株式会社
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島谷 洋
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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伊藤 里美
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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荒木 怜
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
-
寺田 尚史
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
-
野口 英剛
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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中山 和也
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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加勢 正隆
富士通株式会社
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松尾 二郎
富士通研究所
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山田 英丙
京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻
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二宮 啓
京都大学大学院工学研究科附属量子理工学研究実験センター
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永野 葵樹子
奈良女大院人間文化
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北垣 卓
京大院工QSEC
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松尾 二郎
奈良女大理
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伊藤 秋男
奈良女大理
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Aoki T.
京大院工
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加瀬 正隆
富士通
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北川 晃幸
(株)野村鍍金
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高木 俊宜
京大・電子工学
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安本 正人
(独)産業技術総合研究所計測フロンティア研究部門
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北井 敦
京都大学工学部イオン工学実験施設
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石田 昌広
京都大学工学部イオン工学実験施設
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明渡 邦夫
京都大学工学部イオン工学実験施設
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高木 俊宜
京大 工
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中野 博彦
サムコインターナショナル研 開発部
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立田 利明
サムコインターナショナル研
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金原 啓道
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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大塚 健一
富士通
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唐橋 一浩
富士通研究所
-
Sawin H.H.
マサチューセッツ工科大学
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秋月 誠
三洋電機マイクロ研
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金子 剛
京都大学工学部イオン工学実験施設
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村井 健介
大阪工業技術研究所
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千葉 俊一
京都大学大学院工学研究科附属イオン工学実験施設
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吉澤 哲
京都大学工学部イオン工学実験施設
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
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瀬木 利夫
科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業
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青木 学聡
科学技術振興機構 戦略的創造研究推進事業
-
北川 晃幸
(株)野村鍍金 技術部
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千葉 俊一
京都大学大学院工学研究科
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梅咲 則正
大阪工業技術研究所
著作論文
- クラスタイオンビームによる平坦化加工技術
- マルチビーム薄膜形成装置の開発
- デカボランイオン注入による損傷の形成とその増速拡散への影響
- イオン衝突によるシリコン表面欠陥の高温STM観察
- クラスターイオン注入とデバイスプロセス
- ガスクラスタイオンビームの生成と応用
- ガスクラスターイオンビームによる表面エッチング
- ガスクラスターイオンビームプロセッシング
- ガスクラスタ-イオンビ-ムによる固体表面プロセス
- クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性)
- クラスターイオンの非線形効果(原子核とマイクロララスターの類似性と異質性,研究会報告)
- 分子動力学法によるホウ素クラスターイオン注入のシミュレーション
- ガスクラスターイオンビームによるSiC表面平坦化
- 50 keVでリンイオンを注入した放射線治療用シリカガラスの性質
- ガスクラスターイオンの表面衝突(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性,研究会報告)
- 31p-PSB-6 クラスターイオンの表面散乱
- クラスターイオンビームによる医用材料の表面改質 (特集 生命機能と材料--生命機能マテリアル/生命現象マテリアル) -- (侵しゅうの低い医療を目指して--物理機能系材料の創出)
- 擬似体液を用いた人工材料へのアパタイトコーティング (特集 生体セラミックスのコーティング技術)
- 酸素クラスターイオンビームを照射した高分子基板上へのアパタイト形成(周期空間と相互作用する新しいセラミックスのマテリアルデザインとプロセッシング)
- 酸素クラスターイオンビーム援用蒸着法によるSi基板上への光触媒TiO_2薄膜の作製(半導体Si及び関連材料・評価)
- 液体クラスターイオンビームによるSi基板表面照射効果(シリコン関連材料の作製と評価)
- 23aRB-2 巨大Arクラスター衝突によりSiから生成される二次イオンにおける入射速度効果(放射線物理(散乱素過程),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 19aXJ-4 サイズ選別されたクラスターイオン照射における二次イオン収率測定(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26pWD-7 サイズ選別されたクラスターイオンにより生成される二次イオンの測定(26pWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 28aTA-6 スパッタリングにおけるイオン化確率の入射クラスターイオン種依存性(28aTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- クラスターイオンビーム技術の最近の進展 (特集 クラスタービームとその応用技術)
- 高速重イオンを利用したイメージング質量分析
- 24aRB-2 高分解能イメージング質量分析へ向けたイオン入射条件の探索(原子分子・放射線融合(イオン-表面相互作用),領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- クラスターイオンの新しい展開--ナノプロセスから先端分析応用
- 19aXJ-5 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出III(放射線物理,領域1,原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理)
- 26pWD-8 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出II(26pWD 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 28pTA-9 イオン照射による生体高分子薄膜からの二次イオン放出(28pTA 放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 19pYR-9 MeV重イオン衝撃スパッタリングによる励起状態分子放出(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 19pYR-5 巨大ガスクラスターイオン衝突による半導体材料からの二次イオン放出(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25aYJ-9 高速イオン衝撃スパッタリングによる中性粒子の収量及び放出エネルギー測定(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25aYJ-8 固体からの高速イオン衝撃誘起正負クラスターイオンのサイズ分布から見る放出機構解明(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 25aYJ-6 複数の方法で測定した全スパッタリング収率の比較(放射線物理,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))
- 12aTG-6 MeV 重イオン照射により固体から放出された中性粒子の運動エネルギー分布測定(放射線物理, 領域 1)
- 12aTG-5 MeV エネルギー領域での絶縁体及び金属の全スパッタリング収率測定(放射線物理, 領域 1)
- ポリアトミッククラスターイオン注入による浅い接合形成
- 200kVArガスクラスターイオンビームによる浅い注入層の形成
- ガスクラスターイオンの表面衝突(原子核とマイクロクラスターの類似性と異質性,研究会報告)
- ICBによるエピタキシャルAl/Al_2O_3積層構造の形成と応用
- ICBによるSi基板上のエピタキシャルAl/Al_2O_3積層構造の共鳴トンネルデバイスへの検討
- ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術
- クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用 (小特集 イオン技術の新しい発展)
- ガスクラスターイオンビームの大電流化及び表面高機能化
- レーザ誘起昇温脱離法(LITD)によるプラズマエッチング中の試料表面の評価
- 低エネルギーホウ素イオン注入におけるホウ素の蓄積・脱離過程のシミュレーション
- 分子動力学法を用いたFイオン照射によるSi表面エッチングのシミュレーション
- ガスクラスターイオンビームを用いた半導体表面処理技術の開発
- イオン工学的手法による高機能薄膜形成・結晶成長に関する現況
- ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術
- クラスターイオンビーム技術の最近の進展
- 反応性クラスターイオンビームによるエッチング
- 29p-PSB-30 クラスターイオンによるスパッタリング
- クラスターイオンビームによる先端加工プロセス (特集 最近のオプトメカトロニクス用材料の加工・洗浄技術を追う)
- クラスターイオン衝突における非線形照射効果とそのプロセス応用
- クラスタ-イオンビ-ム(ICB)技術による光学薄膜材料創製 (光源材料--表面・界面特性)