多元蒸着法による酸化物強誘電体薄膜の高速合成
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 高輝度放射光 X 線用多層膜フレネルゾーンプレートの開発
- マルチビーム薄膜形成装置の開発
- スパッタアシストプラズマCVD法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性
- 多元蒸着法によるPbTiO_3薄膜の作製
- 光学薄膜の中の電界強度分布計算
- 同心円多層膜のX線光学系への応用
- 多層膜構造を用いたX線集光素子と応用
- 硬X線用1次元フレネルゾーンプレートの作製
- 階段状構造を有するX線用多層膜レンズの開発
- 硬X線のマイクロビームの生成と利用
- 直流マグネトロンスパッタリング法による多層膜フレネルゾーンプレートの作製 - スリットによる界面の平滑化効果 -
- Cu/Al積層型フレネルゾーンプレートの作製と評価
- 積層型ゾーンプレートによるX線マイクロビームの形成
- X線用積層型Ag/Cゾーンプレートの製作
- 積層型X線ゾ-ンプレ-ト用蒸着材料に関する考察
- 硬X線積層型ゾーンプレート用材料の検討
- 硬X線用積層型ゾーンプレートの作製に関する考察
- ゾ-ンプレ-トの作製に関する最近の研究動向
- 高周波及び直流スパッタリングによる200℃ガラス基板上への ITO 透明導電膜の形成
- 光励起化学蒸着法によるSnO_2の成膜 : 紫外光の照射効果
- パルスレーザー堆積法によるPbTiO_3成膜におけるターゲットの影響
- マグネトロンスパッタ法で形成したTa_2O_5光学薄膜の力学的性質
- スパッタリング法による高輝度X線用多層膜レンズの開発
- 多元蒸着法による酸化物強誘電体薄膜の高速合成
- 多元蒸着法による酸化物強誘電体薄膜の高速合成
- プラズマCVD法による多孔質ガラスへの窒化チタンの被覆 (第31回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- プラズマCVD法により作製した窒化チタン膜の摩擦摩耗特性 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- プラズマCVD法による炭化チタン膜の形成
- サマリー・アブストラクト
- プラズマCVD法による多孔質ガラスへの窒化チタンの被覆
- プラズマCVD法により作製した窒化チタン膜の摩擦摩耗特性
- 紫外レーザー用光学多層膜の膜厚制御
- 多元蒸着法による酸化物強誘電体薄膜の高速合成
- スパッタアシストプラズマ化学気相成長法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性(II)
- 同心円多層膜のX線光学系への応用
- プラズマCVD法による窒化チタン膜形成 (II)
- プラズマCVD法による炭化チタン膜形成
- スパッタリングプラズマCVD法によるPbTiO3薄膜の合成
- プラズマCVD法による窒化チタン膜形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- Low Temperature Preparation of SnO2 Film by Photo CVD with Sn(CH3)4-O2 or O3 System.