Low Temperature Preparation of SnO2 Film by Photo CVD with Sn(CH3)4-O2 or O3 System.
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- マルチビーム薄膜形成装置の開発
- スパッタアシストプラズマCVD法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性
- 多元蒸着法によるPbTiO_3薄膜の作製
- 紫外レ-ザ-用光学多層膜の膜厚制御 (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 光学薄膜の中の電界強度分布計算
- RFプラズマCVD法により作成した窒化チタン膜の組成と構造
- 積層型ゾーンプレートによるX線マイクロビームの形成
- 高周波及び直流スパッタリングによる200℃ガラス基板上への ITO 透明導電膜の形成
- 光励起化学蒸着法によるSnO_2の成膜 : 紫外光の照射効果
- 自己バイアスを消去したRFプラズマの特性