金属を基板としたTiN膜
スポンサーリンク
概要
著者
-
木村 三郎
大阪工業技術試験所
-
石田 正
大阪工技研
-
石田 正
大阪工業技術研究所
-
田畑 収
大阪工業技術試験所
-
上条 長生
大阪工業技術試験所
-
内藤 博史
東洋工業株式会社
-
清水 正義
清水電設株式会社
関連論文
- スパッタアシストプラズマCVD法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性
- 多元蒸着法によるPbTiO_3薄膜の作製
- 紫外レ-ザ-用光学多層膜の膜厚制御 (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
- 光学薄膜の中の電界強度分布計算
- RFプラズマCVD法により作成した窒化チタン膜の組成と構造
- 高周波及び直流スパッタリングによる200℃ガラス基板上への ITO 透明導電膜の形成
- 光励起化学蒸着法によるSnO_2の成膜 : 紫外光の照射効果
- パルスレーザー堆積法によるPbTiO_3成膜におけるターゲットの影響
- 27p-L-12 金属固体表面のAEAPS
- 30p-E-4 光電子広域出現電圧分光法(EAPS)の固体表面への応用
- サマリー・アブストラクト
- 紫外レーザー用光学多層膜の膜厚制御
- プラズマCVD法による窒化チタン膜形成 (II)
- チタンコーティングしたステンレス鋼表面のオージェ分析
- 金属表面のEAPFS解析
- SnO2膜の製法とその応用
- プラズマCVD法による炭化チタン膜形成
- タングステン及びモリブデン・ボ-トによる酸化インジウムの真空蒸着
- 低電圧自己バイアスを用いた高周波スパッタリングによるITO透明導電膜の作製と自己バイアスに関する考察
- 3a-G-5 X線粉末回折像の解析
- マイクロ波励起酸素/窒素混合プラズマによるAl被覆Siの酸化
- 金属を基板としたTiN膜
- スパッタリングプラズマCVD法によるPbTiO3薄膜の合成
- X線粉末回折像の指数付ケプログラミング
- プラズマCVD法による窒化チタン膜形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- ア-ク放電による金属フラグメント・イオンの発生(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
- Low Temperature Preparation of SnO2 Film by Photo CVD with Sn(CH3)4-O2 or O3 System.