X線粉末回折像の指数付ケプログラミング
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 多元蒸着法によるPbTiO_3薄膜の作製
- 高周波及び直流スパッタリングによる200℃ガラス基板上への ITO 透明導電膜の形成
- 光励起化学蒸着法によるSnO_2の成膜 : 紫外光の照射効果
- パルスレーザー堆積法によるPbTiO_3成膜におけるターゲットの影響
- 6a-AG-5 金属スパッター現象の実験研究
- サマリー・アブストラクト
- 金属表面のEAPFS解析
- 低電圧自己バイアスを用いた高周波スパッタリングによるITO透明導電膜の作製と自己バイアスに関する考察
- 2a GK-1 電子顕微鏡による希ガス結晶成長過程の研究
- 5p-L-9 電子顕微鏡用液体ヘリウム冷却試料台
- 金属を基板としたTiN膜
- スパッタリングプラズマCVD法によるPbTiO3薄膜の合成
- 単結晶劈開面の昇華機構
- X線粉末回折像の指数付ケプログラミング
- Low Temperature Preparation of SnO2 Film by Photo CVD with Sn(CH3)4-O2 or O3 System.