木村 三郎 | 大阪工業技術試験所

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概要

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• 大阪工業技術試験所の論文著者

関連著者

• 木村 三郎

  大阪工業技術試験所

• 望月 昭一

  大阪工業技術研究所

• 石田 正

  大阪工業技術研究所

• 真壁 遼治

  大阪工業技術研究所

• 田村 繁治

  産業技術総合研究所光技術研究部門(関西センター)

• 田村 繁治

  大阪工業技術研究所

• 望月 昭一

  大阪工業技術試験所

• 三原 敏行

  大阪工業技術研究所

• 佐藤 義幸

  大阪工業技術研究所

• 三原 敏行

  大阪工業技術試験所

• 真壁 遼治

  大阪工業技術試験所

• 石田 正

  大阪工技研

• 田畑 収

  大阪工業技術試験所

• 田村 繁治

  (独)産業技術総合研究所光技術研究部門

• 丹生 博彦

  姫路工業大学大学院工学研究科電気系工学専攻

• 松田 哲郎

  姫路工業大学

• 前田 宗雄

  姫路工業大学

• 石田 正

  大阪工業技術試験所

• 高井 宗三

  姫路工業大学

• 青木 正樹

  松下電器産業 開研

• 小林 憲司

  ユニゾン株式会社

• 田畑 収

  平野金属株式会社

• 中島 貞夫

  大阪工業技術試験所

• 上条 長生

  大阪工業技術試験所

• 内藤 博史

  東洋工業株式会社

• 清水 正義

  清水電設株式会社

• 前田 宗雄

  姫路工業大学電子工学教室

• 青木 正樹

  松下電器産業 (株) 無線研究所

• 田村 繁治

  大阪工業技術試験所

• 朴 正一

  韓国国立工業技術院

• 田畑 収

  イワタニプランテック (株)

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著作論文

• スパッタアシストプラズマCVD法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性
• 多元蒸着法によるPbTiO_3薄膜の作製
• 紫外レ-ザ-用光学多層膜の膜厚制御 (第29回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)
• 光学薄膜の中の電界強度分布計算
• RFプラズマCVD法により作成した窒化チタン膜の組成と構造
• 紫外レーザー用光学多層膜の膜厚制御
• SnO2膜の製法とその応用
• プラズマCVD法による炭化チタン膜形成
• タングステン及びモリブデン・ボ-トによる酸化インジウムの真空蒸着
• マイクロ波励起酸素/窒素混合プラズマによるAl被覆Siの酸化
• 金属を基板としたTiN膜
• スパッタリングプラズマCVD法によるPbTiO3薄膜の合成
• プラズマCVD法による窒化チタン膜形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)
• Low Temperature Preparation of SnO2 Film by Photo CVD with Sn(CH3)4-O2 or O3 System.

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