真壁 遼治 | 大阪工業技術試験所

スポンサーリンク

概要

• 真壁 遼治の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 大阪工業技術試験所の論文著者

関連著者

• 真壁 遼治

  大阪工業技術試験所

• 真壁 遼治

  大阪工業技術研究所

• 望月 昭一

  大阪工業技術試験所

• 望月 昭一

  大阪工業技術研究所

• 三原 敏行

  大阪工業技術試験所

• 三原 敏行

  大阪工業技術研究所

• 田村 繁治

  (独)産業技術総合研究所光技術研究部門

• 田村 繁治

  産業技術総合研究所光技術研究部門(関西センター)

• 田村 繁治

  大阪工業技術研究所

• 木村 三郎

  大阪工業技術試験所

• 田畑 収

  大阪工業技術試験所

• 小泉 義晴

  東海大学工学部

• 沖村 浩史

  東海大学工学部

• 小泉 義晴

  東海大学大学院工学研究科

• 小泉 義晴

  東海大学工学部応用理学科

• 小泉 義晴

  東海大

• 石田 正

  大阪工業技術試験所

• 小泉 義晴

  東海大 電子情報

• 小林 弘典

  大阪工業技術研究所

• 石田 正

  大阪工技研

• 石田 正

  大阪工業技術研究所

• 河村 新吾

  吉田工業株式会社

• 沖村 浩史

  東海大

• 沖村 浩史

  東海大学

• 青木 正樹

  松下電器産業 開研

• 中島 貞夫

  大阪工業技術試験所

• 青木 正樹

  松下電器産業 (株) 無線研究所

もっと見る 閉じる

著作論文

• スパッタアシストプラズマCVD法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性
• パルスレーザー堆積法によるPbTiO_3成膜におけるターゲットの影響
• 導電性酸化物薄膜の生成とその電気的特性に及ぼすアニーリング効果
• スパッタアシストプラズマ化学気相成長法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性(II)
• プラズマCVD法による窒化チタン膜形成 (II)
• プラズマCVD法による窒化チタン膜形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)

スポンサーリンク