導電性酸化物薄膜の生成とその電気的特性に及ぼすアニーリング効果
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概要
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導電性酸化物であるアンチモン添加酸化スズ薄膜を, 高周波スパッタ法でアルミナ基板上に生成し, そのアニーリング効果および高温領域における電気的特性を調べた。アニーリング処理により薄膜の抵抗は減少するが, 空気中処理では500℃付近に抵抗が増加する現象が顕著に見られる。また電子移動度は増加するが, 真空中処理の場合が2-3倍と大きく増加した。このあと1000℃までの抵抗測定では半導体的特性が見られるが, 500℃付近には抵抗の大きい領域が存在している。また可視領域における薄膜の透過率は, 空気中処理では変化は小さいが, 真空中処理では大きく減少した。しかし再度の空気中処理で透過率はほぼ元の値に回復し可逆的であった。
- 1999-05-01
著者
-
小泉 義晴
東海大学工学部
-
沖村 浩史
東海大学工学部
-
小泉 義晴
東海大学大学院工学研究科
-
小泉 義晴
東海大学工学部応用理学科
-
小泉 義晴
東海大
-
真壁 遼治
大阪工業技術試験所
-
小泉 義晴
東海大 電子情報
-
沖村 浩史
東海大
-
沖村 浩史
東海大学
-
真壁 遼治
大阪工業技術研究所
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