非晶質性 Co-Si 積層膜の磁化特性
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概要
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We have prepared the double deposited filmes of amorphous Si-Co by the vacuum evaporation method, and measured magnetic properties of films. It was found that there was a large induced magnetic anisotropy in the parallel direction to the surface (K_u=l.2×10^6erg/cc). When Co deposited on to the amorphous Si base layer, the crystalline magnetic anisotropy of Co vanished due to the microscopic grain configuration and states of interface Si and Co layers. Then finally Si-Co films have a large induced magnetic anisotropy caused by the strain of grain configurations.
- 東海大学の論文
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