望月 昭一 | 大阪工業技術試験所

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• 望月 昭一

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• 真壁 遼治

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• 三原 敏行

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• 木村 三郎

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• 石田 正

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• 田村 繁治

  (独)産業技術総合研究所光技術研究部門

• 田村 繁治

  産業技術総合研究所光技術研究部門(関西センター)

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• 小林 弘典

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• 田畑 収

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• 田畑 収

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• 河村 新吾

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• 青木 正樹

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• 中島 貞夫

  大阪工業技術試験所

• 青木 正樹

  松下電器産業 (株) 無線研究所

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著作論文

• スパッタアシストプラズマCVD法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性
• 多元蒸着法によるPbTiO_3薄膜の作製
• 高周波及び直流スパッタリングによる200℃ガラス基板上への ITO 透明導電膜の形成
• パルスレーザー堆積法によるPbTiO_3成膜におけるターゲットの影響
• スパッタアシストプラズマ化学気相成長法により作製されたPbTiO_3薄膜の配向性(II)
• プラズマCVD法による窒化チタン膜形成 (II)
• プラズマCVD法による窒化チタン膜形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)

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