青木 正樹 | 松下電器産業 開研
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概要
関連著者
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青木 正樹
松下電器産業 開研
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青木 正樹
松下電器産業 (株) 無線研究所
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藤井 映志
松下電器産業(株)先端技術研究所 ナノテクノロジー研究所
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映像デバイス開発センター
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大阪工業技術試験所
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真壁 遼治
大阪工業技術試験所
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松下電器産業(株)AVC社AVC商品開発センタ
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松下電器産業(株)生活環境システム開発センター
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真壁 遼治
大阪工業技術研究所
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望月 昭一
大阪工業技術研究所
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松下電器産業 開研
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大阪工業技術試験所
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松下電気産業(株)開発研究所
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松下電気産業(株)開発研究所
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青木 正樹
松下電気産業(株)開発研究所
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中島 貞夫
大阪工業技術試験所
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栗林 清
松下電器産業 (株) 開発研究所
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文字 秀人
松下電器産業 (株) 開発研究所
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界 政行
松下電器産業 (株) 開発研究所
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藤井 映志
松下電器産業(株)無線研究所
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梅谷 誠
松下電器産業 (株) 開発研究所
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鳥井 秀雄
松下電器産業(株)材料部品研究所
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青木 正樹
松下電器産業 (株) 開発研究所
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青木 正樹
松下電器産業(株)無線研究所
著作論文
- プラズマ励起MO-CVD法によるスピネル型酸化鉄(100)完全配向膜の生成
- プラズマ励起MO-CVD法による酸化鉄簿膜の生成
- スパッタ法による成形型用白金合金膜
- プラズマCVD法による窒化チタン膜形成(速報) (第25回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス--昭和59年10月29日〜31日)