藤井 映志 | 松下電器産業(株)先端技術研究所 ナノテクノロジー研究所

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関連著者

• 藤井 映志

  松下電器産業(株)先端技術研究所 ナノテクノロジー研究所

• 鳥井 秀雄

  映像デバイス開発センター

• 鳥井 秀雄

  松下電器産業(株)生活環境システム開発センター

• 鳥井 秀雄

  松下電器産業(株)材料部品研究所

• 高山 良一

  松下電器産業(株)先行デバイス開発センター

• 友澤 淳

  松下電器産業(株)先行デバイス開発センター

• 高山 良一

  松下電器産業(株)中央研究所

• 青木 正樹

  松下電器産業 開研

• 藤井 達生

  岡山大学工学部精密応用化学科

• 野村 幸治

  パナソニックエレクトロニックデバイス(株)開発技術センター

• 鎌田 健

  松下電器産業(株)先行デバイス開発センター

• 村田 晶子

  松下電器産業(株)先行デバイス開発センター

• 平澤 拓

  松下電器産業(株)先行デバイス開発センター

• 藤井 覚

  松下電器産業(株)先行デバイス開発センター

• 井上 嘉

  西東京科学大学

• 鎌田 健

  松下電器産業

• 藤井 映志

  松下電気産業(株)開発研究所

• 鳥井 秀雄

  松下電気産業(株)開発研究所

• 青木 正樹

  松下電気産業(株)開発研究所

• 服部 益三

  松下電器産業(株)材料部品研究所

• 栗林 清

  西東京科学大学理工学部物質工学科

• 藤井 達生

  岡山大学工学部

• 藤井 映志

  松下電器産業(株)無線研究所

• 青木 正樹

  松下電器産業(株)無線研究所

• 青木 正樹

  松下電器産業 (株) 無線研究所

• 藤井 映志

  松下電器産業(株)材料部品研究所

• 井上 嘉

  西東京科学大学理工学部物質工学科

• 野村 幸治

  パナソニック(株) 先端技術研究所 ナノプロセス技術グループ

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著作論文

• 配向PZT薄膜の作製とマイクロ圧電素子への応用
• 高温度範囲・高応答性温度センサに用いる薄膜サーミスタの作製
• プラズマ励起MO-CVD法によるスピネル型酸化鉄(100)完全配向膜の生成
• プラズマ励起MO-CVD法による酸化鉄簿膜の生成
• プラズマMOCVD法によるCoフェライト膜およびCoフェライト/Znフェライト二層膜の微細構造

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