<001>配向PZT薄膜の作製とマイクロ圧電素子への応用
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
Preparation of <001>oriented Pb(ZrTi)O3(PZT) thin films and their applications to the micro-piezoelectric devices were investigated. The <001>oriented PZT thin films, which have a composition near the morphotropic phase boundary, were deposited on Pt/MgO and Pt/Ti/Si substrates by rf-magnetron sputtering. Both of these thin films show the excellent piezoelectric properties without a poling treatment. The piezoelectric properties of the PZT thin films were examined on the micro fabricated cantilever structure. The PZT thin films on Pt/MgO have high piezoelectric coefficient d31=100×10-12m/V, extremely low εr=240, and remarkably high electromechanical coupling coefficient k31. The PZT thin films on Pt/Ti/Si have very high d31of 150×10-12m/V and εr=700. The PZT thin films on Pt/Ti/Si were applied to the angular rate sensors with a tuning fork type and the actuators of the ink-jet printer heads with 400 pressure chambers. These PZT thin films are suitable for the use in micro piezoelectric sensors and actuators.
- 社団法人 電気学会の論文
- 2007-12-01
著者
-
野村 幸治
パナソニックエレクトロニックデバイス(株)開発技術センター
-
高山 良一
松下電器産業(株)先行デバイス開発センター
-
藤井 映志
松下電器産業(株)先端技術研究所 ナノテクノロジー研究所
-
鎌田 健
松下電器産業(株)先行デバイス開発センター
-
村田 晶子
松下電器産業(株)先行デバイス開発センター
-
平澤 拓
松下電器産業(株)先行デバイス開発センター
-
友澤 淳
松下電器産業(株)先行デバイス開発センター
-
藤井 覚
松下電器産業(株)先行デバイス開発センター
-
鳥井 秀雄
映像デバイス開発センター
-
高山 良一
松下電器産業(株)中央研究所
-
鎌田 健
松下電器産業
-
野村 幸治
パナソニック(株) 先端技術研究所 ナノプロセス技術グループ
関連論文
- 配向PZT薄膜の作製とマイクロ圧電素子への応用
- 2)焦電型赤外線2次元センサ;赤外線2次元センサの新規デバイス構成と走査方式(テレビジョン電子装置研究会)
- 焦電型赤外線2次元センサ
- 2)PbTiO_3系焦電薄膜を用いた高性能赤外センサ(テレビジョン電子装置研究会)
- PbTiO_3系焦電薄膜を用いた高性能赤外線センサ
- マイクロマシンへの空気の影響
- 酸化物高温超伝導薄膜に対する水素イオン照射効果
- 6)焦電薄膜型赤外線画像センサシステム(情報入力研究会)
- La及びMgを添加したPbTiO_3薄膜の焦電特性
- 高周波マグネトロンスパッタリング法により作製したLa及びMg添加のPbTiO_3薄膜の結晶学的性質
- La及びMgを添加したPbTiO_3セラミックスの作製とその焦電特性
- 高温度範囲・高応答性温度センサに用いる薄膜サーミスタの作製
- マイクロメンブレンの動作特性解析に関する研究
- 229 マイクロメンブレンの動作特性解析に関する研究
- 機械的ひずみによるPb(Zr,Ti)O_3薄膜の誘電特性の製御に関する研究
- ZnO薄膜を用いたマイクロカンチレバー型アクチュエータ
- プラズマ励起MO-CVD法によるスピネル型酸化鉄(100)完全配向膜の生成 (超急冷合金・超硬質材料・イオン照射ナノメ-タコンポジット材料) -- (ナノメ-タコンポジット材料)
- プラズマ励起MO-CVD法による酸化鉄薄膜の生成 (超急冷合金・超硬質材料・イオン照射ナノメ-タコンポジット材料) -- (ナノメ-タコンポジット材料)
- プラズマ励起MO-CVD法によるスピネル型酸化鉄(100)完全配向膜の生成
- プラズマ励起MO-CVD法による酸化鉄簿膜の生成
- 228 Al/SiO_2 薄膜の界面拡散に及ぼす作成プロセスの影響
- プラズマMOCVD法によるCoフェライト膜およびCoフェライト/Znフェライト二層膜の微細構造
- マイクロマシンへの空気の影響(「MEMS研究に役立つシミュレーション技術」)
- マイクロトライボロジーを考慮した構造の最適化
- 強誘電体薄膜を用いた焦電型赤外線センサ-
- 圧電薄膜を用いた角速度センサ