228 Al/SiO_2 薄膜の界面拡散に及ぼす作成プロセスの影響

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概要

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• 社団法人日本材料学会の論文

著者

• 小寺 秀俊

  京都大学

• 島 進

  京都大学工学部

• 平澤 拓

  松下電器産業(株)先行デバイス開発センター

• 島 進

  京大工

• 山本 敏博

  京都大学院

• 山本 敏博

  京大工

• 島 進

  京都大学

• 平澤 拓

  京都大学院

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