奈良 安雄 | 富士通研究所
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概要
関連著者
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奈良 安雄
富士通研究所
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奈良 安雄
(株)富士通研究所 Ulsi研究部門
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奈良 安雄
半導体先端テクノロジーズ(Selete)
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杉田 義博
富士通研究所株式会社
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杉田 義博
富士通研究所
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深野 哲
富士通研究所
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深野 哲
富士通研究所、ulsiプロセス研究部
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後藤 賢一
富士通株式会社 次世代lsi開発事業部
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赤坂 泰志
東京エレクトロン株式会社
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杉井 寿博
(株)富士通研究所
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石井 賢
株式会社東芝セミコンダクター社
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伊藤 隆司
東北大学大学院工学研究科
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山崎 辰也
富士通・半導体プロセス開発部
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幸山 裕亮
株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター
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山崎 辰也
(株)富士通研究所
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後藤 賢一
(株)富士通研究所
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田中 正幸
東芝
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田中 正幸
株式会社東芝セミコンダクター社
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杉井 寿博
富士通研究所
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宮下 俊彦
(株)富士通研究所
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赤坂 泰志
株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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吉田 英司
富士通研究所
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宮下 俊彦
富士通研究所
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新田 博行
株式会社東芝セミコンダクター社
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chou P.H.
Winbond electronics corp.
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橋本 浩一
富士通研究所
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田中 徹
富士通研究所
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杉井 寿博
富士通研究所 デバイス開発部
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橋本 浩一
富士通
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佐々木 伸夫
富士通研究所
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伊藤 隆司
富士通研究所
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山崎 辰也
富士通研究所
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田中 徹
(株)富士通研究所シリコンテクノロジ研究所
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堀内 敬
富士通研究所
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浅野 高治
富士通研究所
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伊藤 隆司
東京工業大学ソリューション研究機構:広島大学ナノデバイス・バイオ融合科学研究所
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出浦 学
富士通研究所
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後藤 賢一
富士通研究所
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佐々木 伸夫
富士通研究所、ulsiプロセス研究部
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幸山 裕亮
株式会社東芝セミコンダクター社
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中村 俊二
富士通研究所、ulsiプロセス研究部
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堀江 博
富士通研究所、ULSIプロセス研究部
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杉井 寿博
富士通マイクロエレクトロニクス
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杉井 寿博
富士通
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浅野 高治
富士通研究所、ulsiプロセス研究部
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奈良 安雄
(株)富士通研究所
著作論文
- 大容量メモリ混載システムLSI用低温プロセスの開発(先端CMOS及びプロセス関連技術)
- 短波長光励起反応を利用したエッチング技術
- 熱酸化シリコンの照射損傷による構造変化
- ディープサブミクロンCMOSインバータの遅延時間削減への検討
- ロジックとの混載に適した反転スタックキャパシタ(RSTC)DRAMセル構造の提案