田中 正幸 | 東芝

スポンサーリンク

概要

• 田中 正幸の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 東芝の論文著者

関連著者

• 田中 正幸

  東芝

• 武居 文彦

  阪大理

• 田中 正幸

  東大物性研

• 武居 文彦

  大阪大理

• 武居 文彦

  阪大院理

• 長谷川 正

  名古屋大学工学研究科

• 長谷川 正

  東大物性研

• 辛 埴

  東大物性研

• 塚本 桓世

  SPring-8

• 田中 正幸

  株式会社東芝セミコンダクター社

• Higuchi T

  東理大理

• 武居 文彦

  東大物性研

• 藤沢 正美

  東大物性研

• 樋口 透

  東理大理

• 藤沢 雅美

  東大物性研

• 井上 文彦

  富士通プロセス開発部第1開発部

• 井上 文彦

  富士通

• 中西 俊郎

  富士通研究所

• 須黒 恭一

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 綱島 祥隆

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 児島 学

  富士通研究所

• 齋田 繁彦

  東芝

• 須黒 恭一

  (株)東芝ulsi研究所

• 須黒 恭一

  東芝

• 益永 孝幸

  東芝 生産技セ

• 益永 孝幸

  東芝

• 野中 聡

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 金井 直樹

  北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科

• 伊藤 正行

  名大院理

• 伊藤 正行

  千葉大理

• 森 雅身

  千葉大自然

• 森 雅身

  千葉大理

• 高橋 隆

  東北大院理

• 奈良 安雄

  半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 田中 正幸

  (株)東芝生産技術センター

• 中川 泰忠

  (株)東芝生産技術センター

• 長谷川 正

  東北大金研

• 横谷 尚睦

  東北大院理

• 高木 英典

  東大物性研

• 藤澤 英樹

  東北大院理

• 小池 正義

  東大物性研

• 手塚 泰久

  東大物性研

• 野原 実

  東大物性研

• 赤坂 泰志

  東京エレクトロン株式会社

• 奈良 安雄

  (株)富士通研究所 Ulsi研究部門

• 武井 文彦

  阪大理

• 長谷川 正

  東京大学物性研究所

• 小池 正義

  東大・物性研

• 塚本 桓世

  東理大理

• 石井 賢

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 樋口 透

  東理大・理

• 塚本 桓世

  東理大・理

• 塚本 恒世

  東理大理

• 金井 要

  東大物性研

• 鈴木 拓

  福井大工

• 幸山 裕亮

  株式会社東芝セミコンダクター社 SoC研究開発センター

• 金井 要

  岡山大学異分野融合先端研究コア

• 樋口 透

  東京理科大理

• 塚本 桓世

  東京理科大理

• 田中 正幸

  東京大学物性研究所

• 武居 文彦

  大阪大学大学院理学研究科

• 武居 文彦

  阪大・理

• 長谷川 正

  ペンシルヴァニア州立大

• 鈴木 拓

  東大物性研

• 宮下 俊彦

  (株)富士通研究所

• 赤坂 泰志

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 吉田 英司

  富士通研究所

• 宮下 俊彦

  富士通研究所

• 新田 博行

  株式会社東芝セミコンダクター社

• chou P.H.

  Winbond electronics corp.

• 橋本 浩一

  富士通研究所

• 田中 徹

  富士通研究所

• 奈良 安雄

  富士通研究所

• 塚本 桓世

  東京理科大学理学部応用物理学科

• 塚本 桓世

  東京理科大学大学院理学研究科

• 斎田 繁彦

  東芝

• 樋口 透

  東京理科大学

• 橋本 浩一

  富士通

• 田中 徹

  (株)富士通研究所シリコンテクノロジ研究所

• 伊藤 正行

  名大理

• 中川 泰忠

  東芝生産技術センター

• 中川 泰忠

  大阪大学大学院

• 幸山 裕亮

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 中川 泰忠

  東芝 生産技術センター

もっと見る 閉じる

著作論文

• 二次元三角格子遍歴磁性体PdCoO_2のNMR
• 28pPSB-42 デラフォサイト型遷移金属酸化物の物性及び電子構造
• 23aPS-86 電気伝導性デラフォサイト型遷移金属酸化物の物性に及ぼす置換効果
• デラフォサイト型遷移金属酸化物(Pd,Pt)CoO_2の単結晶育成 : バルク成長VI
• 22aZG-10 電気伝導性デラフォサイト型遷移金属酸化物の単結晶育成と植物
• 29p-PSA-27 金属伝導性酸化物PdCoO_2の単結晶育成および物性測定とその伝導性の起源
• PdCoO_2の光電子分光
• 金属伝導性酸化物PdCoO_2およびPtCoO_2のマンガン置換単結晶育成およびそのスピングラス的磁性
• SrCuO_2の角度分解光電子分光;Spin-Charge Separation?
• SrCuO_2の単結晶育成 : 超伝導II
• Bi系酸化物超伝導体のガラス-結晶転移 : 超伝導酸化物
• 大容量メモリ混載システムLSI用低温プロセスの開発(先端CMOS及びプロセス関連技術)
• テトラクロロシラン-シリコン窒化膜によるボロン突き抜けの抑制および高性能デュアルゲートDRAMの実現
• テトラクロロシラン-シリコン窒化膜によるボロン突き抜けの抑制および高性能デュアルゲートDRAMの実現
• 512 現像剤流れ解析のための個別要素法解析パラメータ設定法(OS.5 メッシュフリー/粒子法とその関連技術(3),オーガナイズドセッション講演)
• 401 解像度可変型MPS法の基礎的研究(OS10.メッシュフリー/粒子法とその関連技術(1),オーガナイズドセッション)

もっと見る 閉じる

スポンサーリンク