井上 文彦 | 富士通
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概要
関連著者
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井上 文彦
富士通プロセス開発部第1開発部
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井上 文彦
富士通
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田中 正幸
東芝
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田中 正幸
株式会社東芝セミコンダクター社
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中西 俊郎
富士通研究所
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須黒 恭一
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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児島 学
富士通研究所
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齋田 繁彦
東芝
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須黒 恭一
(株)東芝ulsi研究所
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須黒 恭一
東芝
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野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
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金井 直樹
北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科
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後藤 広志
富士通(株)デバイス開発部第3プロセス開発部
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後藤 広志
富士通株式会社デバイス開発部
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後藤 広志
富士通プロセス開発部第1開発部
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勝部 雅樹
富士通プロセス開発部第1開発部
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伊澤 哲夫
富士通プロセス開発部第1開発部
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横山 雄二
富士通プロセス開発部第1開発部
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橋本 浩一
富士通プロセス開発部第1開発部
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河村 栄一
富士通プロセス開発部第1開発部
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清水 敦男
富士通プロセス開発部第1開発部
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高木 英雄
富士通プロセス開発部第1開発部
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清水 宏
富士通ロジックLSI開発部開発部
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古用 和人
富士通ロジックLSI開発部開発部
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河村 誠一郎
富士通プロセス開発部第1開発部
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渡部 潔
富士通プロセス開発部第1開発部
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青山 慶三
富士通プロセス開発部第1開発部
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清水 宏
富士通株式会社
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青山 慶三
富士通株式会社lsiテクノロジ開発部
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古用 和人
富士通(株) LSIテクノロジ開発部
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伊澤 哲夫
富士通(株)プロセス開発部
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勝部 雅樹
富士通(株)プロセス開発部
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河村 誠一郎
富士通(株)プロセス開発部
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橋本 浩一
富士通研究所
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斎田 繁彦
東芝
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伊澤 哲夫
(株)富士通
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河村 誠一郎
富士通(株)電子デバイス事業推進本部プロセス開発部
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橋本 浩一
富士通
著作論文
- 0.25μmロジックデバイスのための10μm^2フルCMOS-SRAMテクノロジー
- テトラクロロシラン-シリコン窒化膜によるボロン突き抜けの抑制および高性能デュアルゲートDRAMの実現
- テトラクロロシラン-シリコン窒化膜によるボロン突き抜けの抑制および高性能デュアルゲートDRAMの実現