須黒 恭一 | 東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
須黒 恭一
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
井上 文彦
富士通プロセス開発部第1開発部
-
井上 文彦
富士通
-
田中 正幸
東芝
-
田中 正幸
株式会社東芝セミコンダクター社
-
中西 俊郎
富士通研究所
-
綱島 祥隆
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
児島 学
富士通研究所
-
齋田 繁彦
東芝
-
須黒 恭一
(株)東芝ulsi研究所
-
須黒 恭一
東芝
-
野中 聡
旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座
-
金井 直樹
北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科
-
赤坂 泰志
東京エレクトロン株式会社
-
宮野 清孝
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
-
宮野 清孝
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
赤坂 泰志
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
中嶋 一明
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
末広 信太郎
東芝北九州工場
-
須黒 恭一
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
斎田 繁彦
東芝
-
中嶋 一明
東芝
-
中嶋 一明
東芝 セミコンダクター社
著作論文
- W/poly-Si 積層構造による低抵抗ゲート電極(poly-metal ゲート)
- テトラクロロシラン-シリコン窒化膜によるボロン突き抜けの抑制および高性能デュアルゲートDRAMの実現
- テトラクロロシラン-シリコン窒化膜によるボロン突き抜けの抑制および高性能デュアルゲートDRAMの実現