W/poly-Si 積層構造による低抵抗ゲート電極(poly-metal ゲート)
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概要
- 論文の詳細を見る
- 1996-10-08
著者
-
赤坂 泰志
東京エレクトロン株式会社
-
宮野 清孝
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
-
宮野 清孝
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
赤坂 泰志
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
中嶋 一明
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
須黒 恭一
東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
末広 信太郎
東芝北九州工場
-
須黒 恭一
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
中嶋 一明
東芝
-
中嶋 一明
東芝 セミコンダクター社
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