界面物理現象理解に基づいたNi-FUSI/SiON及びHfSiON界面の実効仕事関数制御技術
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概要
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- 2007-03-01
著者
-
齋藤 友博
東芝 セミコンダクター社
-
小山 正人
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
青山 知憲
(株)東芝セミコンダクター社
-
土屋 義規
(株)東芝 研究開発センター
-
古賀 淳二
東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
西山 彰
東京工業大学大学院総合理工学研究科
-
佐藤 基之
東芝 セミコンダクター社
-
中嶋 一明
東芝
-
中嶋 一明
東芝 セミコンダクター社
-
関根 克行
東芝 セミコンダクター社
-
古賀 淳二
東芝 研究開発センター
-
土屋 義規
東芝 研究開発センター
-
吉木 昌彦
東芝 研究開発センター
-
青山 知憲
東芝 セミコンダクター社
-
西山 彰
東芝 研究開発センター
-
小山 正人
東芝 研究開発センター
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