不純物偏析 Schottky ソース/ドレインを用いた高性能FinFET
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概要
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- 2007-01-19
著者
-
窪田 壮男
株式会社半導体先端テクノロジーズ
-
石内 秀美
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
-
松尾 浩司
(株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター
-
石丸 一成
(株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
稲葉 聡
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
岡野 王俊
(株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
青木 伸俊
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
-
豊島 義明
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
大村 光弘
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
石内 秀美
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
水島 一郎
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
金子 明生
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
八木下 淳史
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
矢橋 勝典
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
窪田 壮男
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
大村 光広
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
松尾 浩司
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
岡野 王俊
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
川崎 博久
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
泉田 貴士
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
金村 貴永
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
青木 伸俊
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
古賀 淳二
東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
稲葉 聡
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
石丸 一成
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
豊島 義明
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
-
須黒 恭一
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
江口 和弘
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
綱島 祥隆
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
木下 敦寛
東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
古賀 淳二
東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
-
古賀 淳二
東芝 研究開発センター
-
水島 一郎
東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
-
木下 敦寛
東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
-
青木 伸俊
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
川崎 博久
(株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
江口 和弘
半導体理工学センター(STARC)
-
金子 明生
東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ
-
青木 伸俊
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ
-
金村 貴永
東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所
-
八木下 淳史
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
-
水島 一郎
東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ
-
泉田 貴士
(株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
-
木下 敦寛
東芝 研究開発センター Lsi基盤技術ラボラトリー
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