八木下 淳史 | (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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概要
関連著者
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八木下 淳史
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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(株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター
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八木下 淳史
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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(株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター
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古賀 淳二
東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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木下 敦寛
東芝研究開発センターlsi基盤技術ラボラトリー
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金村 貴永
半導体研究開発センター:株式会社東芝
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石丸 一成
(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
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須黒 恭一
(株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター
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(株)東芝 セミコンダクター社soc研究開発センター
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石丸 一成
(株)東芝セミコンダクター社
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豊島 義明
東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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石内 秀美
(株)東芝
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東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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綱島 祥隆
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伊藤 早苗
株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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川崎 博久
(株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター
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江口 和弘
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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須黒 恭一
(株)東芝
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江口 和弘
(株)東芝
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東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ
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(株)東芝
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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東芝 セミコンダクター社
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齋藤 友博
株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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松尾 浩司
株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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村越 篤
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犬宮 誠治
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中嶋 一明
東芝 セミコンダクター社
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東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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東芝
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(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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豊島 義明
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(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
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(株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター
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(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
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(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
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東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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宮野 清孝
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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宮野 清孝
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佐々木 貴彦
株式会社東芝
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(株)東芝 研究開発センター
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株式会社東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター
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半導体研究開発センター
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半導体研究開発センター
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半導体研究開発センター
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半導体研究開発センター
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半導体研究開発センター
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遠田 利之
半導体研究開発センター
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半導体研究開発センター
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川崎 博久
半導体研究開発センター
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プロセス技術推進センター
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金子 明生
プロセス技術推進センター
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半導体研究開発センター
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半導体研究開発センター
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石丸 一成
半導体研究開発センター
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須黒 恭一
プロセス技術推進センター
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江口 和弘
プロセス技術推進センター
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石内 秀美
半導体研究開発センター
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伊藤 早苗
(株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター
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小野 高稔
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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矢橋 勝典
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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岩出 健次
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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窪田 壮男
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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中村 光利
半導体研究開発センター:株式会社東芝
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金子 明生
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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八木下 淳史
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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窪田 壮男
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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大村 光広
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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松尾 浩司
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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岡野 王俊
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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川崎 博久
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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泉田 貴士
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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青木 伸俊
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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稲葉 聡
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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石丸 一成
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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豊島 義明
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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江口 和弘
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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川崎 博久
東芝アメリカ電子部品社
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八木下 淳史
東芝アメリカ電子部品社
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石丸 一成
東芝アメリカ電子部品社
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内田 建
東芝研究開発センター (株)東芝
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大塚 伸朗
(株)東芝 Soc研究開発センター
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内田 建
東京工業大学電子物理工学専攻:prest化学技術振興機構
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木下 敦寛
(株)東芝 研究開発センター LSI基盤技術ラボラトリー
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土屋 義則
(株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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青木 伸俊
東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発セ
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大塚 伸朗
(株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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金村 貴永
東芝 セミコンダクター社 マイクロエレクトロニクス技術研究所
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水島 一郎
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
-
齋藤 友博
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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八木下 淳史
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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中嶋 一明
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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犬宮 誠冶
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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松尾 浩司
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飯沼 俊彦
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村越 篤
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赤坂 泰志
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小澤 良夫
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南幅 学
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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松井 之輝
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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尾本 誠一
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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矢野 博之
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
HIEDA Katsuhiko
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
綱島 祥隆
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
須黒 恭一
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
-
有門 経敏
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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奥村 勝弥
株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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木下 敦寛
東芝研究開発センター
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木下 敦寛
東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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古賀 淳二
東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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古賀 淳二
東芝 研究開発センター
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八木下 淳史
東芝セミコンダクター社
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木下 敦寛
東芝 研究開発センター Lsi基盤技術ラボラトリー
著作論文
- ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD-2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
- ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
- 3次元プロセスデバイスシミュレーションによるBulk-FinFETの駆動電流の改善(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- バルクシリコン基板上に形成したゲート長20nm、フィン幅6nmの CMOS FinFET のプロセスインテグレーション技術とデバイス特性
- バルクシリコン基板上に形成したゲート長20nm、フィン幅6nmのCMOS FinFETのプロセスインテグレーション技術とデバイス特性(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
- 32nmノード以降に向けたFinFET SRAMセルのDC特性ばらつき(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- CT-1-3 22nm世代に向けたFinFET SRAM技術(CT-1.10nm世代に向けた新LSI技術,チュートリアル講演,ソサイエティ企画)
- 不純物偏析Schottkyソース/ドレインを用いた高性能FinFET(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
- 不純物偏析 Schottky ソース/ドレインを用いた高性能FinFET
- 3次元プロセスデバイスシミュレーションによるBulk-FinFETの駆動電流の改善(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
- hp32nmノード以降に向けた周辺回路がBulk Planar FET及びメモリセルがBulk-FinFETで構成されたSRAM技術について(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- hp32nmノード以降に向けた周辺回路がBulk Planar FET及びメモリセルがBulk-FinFETで構成されたSRAM技術について(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
- ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
- 不純物偏析を利用した低障壁ショットキートランジスタ(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
- 不純物偏析を利用した低障壁ショットキートランジスタ(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低電力))
- 不純物偏析ショットキー接合トランジスタ
- Metal Gate Technology for High-Performance Transistors (新しい地球環境と豊かなネットワーク社会を生み出す半導体技術) -- (セッション8 先端デバイス技術--限りなき微細化・高機能化への挑戦)