小澤 良夫 | 株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

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• 小澤 良夫

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 小澤 良夫

  株式会社東芝

• 村越 篤

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

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• 尾本 誠一

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

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  東芝 セミコンダクター社

• 齋藤 友博

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中嶋 一明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 飯沼 俊彦

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• 八木下 淳史

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

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• 犬宮 誠治

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• 有門 経敏

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• 奥村 勝弥

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• 犬宮 誠治

  東芝

• 八木下 淳史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 上条 浩幸

  株式会社東芝

• 吉井 一郎

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• 波磨 薫

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• 間 博顕

  株式会社東芝

• 冨田 寛

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 齋藤 友博

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• 八木下 淳史

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中嶋 一明

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠冶

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 飯沼 俊彦

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 村越 篤

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• 赤坂 泰志

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• 小澤 良夫

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• 南幅 学

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松井 之輝

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 尾本 誠一

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 矢野 博之

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• HIEDA Katsuhiko

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

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• 有門 経敏

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• 奥村 勝弥

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 富田 寛

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 富田 寛

  東芝プロセス技術研究所

• 小澤 良夫

  東芝プロセス技術研究所

• 高橋 護

  東芝環境技術研究所

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著作論文

• CMOSデバイスにおける酸化膜欠陥のインプロセススクリーニング技術の検討
• ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD-2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
• ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
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• Si/SiO_2界面歪緩和によるトンネル酸化膜の信頼性向上(高温希釈ウエット酸化プロセスの検討)

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