南幅 学 | 株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

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概要

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関連著者

• 南幅 学

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 村越 篤

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 赤坂 泰志

  東京エレクトロン株式会社

• 尾本 誠一

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 小澤 良夫

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 齋藤 友博

  東芝 セミコンダクター社

• 齋藤 友博

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中嶋 一明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 飯沼 俊彦

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 矢野 博之

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 八木下 淳史

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠治

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 村越 篤

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 赤坂 泰志

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 松井 之輝

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• HIEDA Katsuhiko

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 有門 経敏

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 奥村 勝弥

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠治

  (株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター

• 須黒 恭一

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中嶋 一明

  東芝

• 中嶋 一明

  東芝 セミコンダクター社

• 有門 経敏

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 奥村 勝弥

  東京大学先端科学技術研究センター

• 犬宮 誠治

  東芝

• 八木下 淳史

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 下岡 義明

  (株)東芝

• 平林 英明

  (株)東芝生産技術研究所

• 小澤 良夫

  株式会社東芝

• 川ノ上 孝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 川ノ上 孝

  (株)東芝ulsi研究所

• 大川 秀樹

  (株)東芝生産技術センタｰ

• 須黒 恭一

  (株)東芝ulsi研究所

• 須黒 恭一

  (株)東芝

• 大川 秀樹

  (株)東芝生産技術研究所

• 南幅 学

  (株)東芝ULSI研究所

• 飯島 匡

  (株)東芝ULSI研究所

• 田村 仁

  (株)東芝ULSI研究所

• 桜井 直明

  (株)東芝生産技術研究所

• 久保田 剛

  (株)東芝生産技術推進センター

• 古山 充利

  (株)東芝生産技術推進センター

• 伊高 利明

  (株)東芝生産技術推進センター

• 桜井 直明

  (株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター

• 桜井 直明

  (株)東芝

• 平林 英明

  (株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター

• 久保田 剛

  (株)東芝 半導体事業本部

• 下岡 義明

  (株)東芝ulsi研究所

• 野中 聡

  旭川医科大学耳鼻咽喉科・頭頸部外科学講座

• 野中 源一郎

  九州大学薬学部

• 野中 作太郎

  九州電気専門学校

• 石田 芳也

  北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科

• 金井 直樹

  北見赤十字病院耳鼻咽喉科・頭頸部外科

• 齋藤 友博

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 八木下 淳史

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中嶋 一明

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠冶

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 飯沼 俊彦

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 村越 篤

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 赤坂 泰志

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 小澤 良夫

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 南幅 学

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松井 之輝

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 尾本 誠一

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 矢野 博之

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• HIEDA Katsuhiko

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 有門 経敏

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 奥村 勝弥

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 伊高 利昭

  (株)東芝セミコンダクター社

• 小原 隆

  (株)東芝情報・通信システム技術研究所

• 大島 次郎

  (株)東芝

• 大島 次郎

  (株)東芝 半導体事業部

• 小原 隆

  (株)東芝 生産技術研究所

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著作論文

• ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD-2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
• ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
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• コンタクト同時埋め込みCu配線プロセス
• Dual Damascene によるCu配線形成

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