平林 英明 | (株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター
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概要
関連著者
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平林 英明
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平林 英明
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(株)東芝 生産技術研究所
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間瀬 康一
(株)東芝
著作論文
- ポリシリコンCMPプロセスにおけるディッシングレススラリーの開発
- Cu CMP 後洗浄技術
- CuCMP研磨剤の微視的研磨表面における影響
- コンタクト同時埋め込みCu配線プロセス
- Dual Damascene によるCu配線形成
- アルミナ砥粒を用いたCU-CMP用研磨液の研磨速度の高速化と安定化
- Cu-CMP 用研磨液の開発 -pH調整による研磨速度の高速化