Cu CMP 後洗浄技術
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概要
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- 1999-09-01
著者
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小寺 雅子
(株)東芝セミコンダクター社
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松井 嘉孝
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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平林 英明
(株)東芝生産技術研究所
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松井 嘉孝
東芝半導体生産技術推進センター
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小寺 雅子
東芝半導体生産技術推進センター
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間瀬 康一
東芝半導体生産技術推進センター
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宮下 直人
東芝半導体生産技術推進センター
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平林 英明
東芝生産技術センター
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平林 英明
(株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター
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宮下 直人
明治大学理工学部電気電子工学科:(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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