アルミナ砥粒を用いたCU-CMP用研磨液の研磨速度の高速化と安定化

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概要

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• 2001-09-01

著者

• 平林 英明

  (株)東芝生産技術研究所

• 桜井 直明

  (株)東芝生産技術研究所

• 桜井 直明

  (株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター

• 桜井 直明

  (株)東芝

• 平林 英明

  (株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター

• 猪野 隆生

  (株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター

• 斎藤 晶子

  (株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター

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