基板スピン洗浄における飛散ミストの可視化

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 可視化情報学会の論文
• 1996-11-01

著者

• 桜井 直明

  (株)東芝生産技術研究所

• 桜井 直明

  (株)東芝 生産技術センター プロセス研究センター

• 桜井 直明

  (株)東芝

• 藤田 博

  (株)東芝

関連論文

• CuCMP研磨剤の微視的研磨表面における影響
• コンタクト同時埋め込みCu配線プロセス
• Dual Damascene によるCu配線形成
• アルミナ砥粒を用いたCU-CMP用研磨液の研磨速度の高速化と安定化
• 液体マスフローコントローラの開発
• 基板スピン洗浄における飛散ミストの可視化

スポンサーリンク