小澤 良夫 | 株式会社東芝
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概要
関連著者
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小澤 良夫
株式会社東芝
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小澤 良夫
株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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間 博顕
株式会社東芝
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村越 篤
(株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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(株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター
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東京エレクトロン株式会社
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝
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齋藤 友博
株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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松井 之輝
株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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(株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター
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須黒 恭一
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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綱島 祥隆
東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター
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中嶋 一明
東芝
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中嶋 一明
東芝 セミコンダクター社
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有門 経敏
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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奥村 勝弥
東京大学先端科学技術研究センター
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犬宮 誠治
東芝
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八木下 淳史
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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(株)東芝 研究開発センター
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水島 一郎
(株)東芝研究開発センターulsi研究所
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三谷 祐一郎
(株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー
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齋田 繁彦
(株)東芝 研究開発センター
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神林 茂
(株)東芝 研究開発センター
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間 博顕
(株)東芝 セミコンダクター社
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小池 三夫
(株)東芝
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小澤 良夫
(株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所
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小池 三夫
東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー
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三谷 祐一郎
(株)東芝 研究開発センター
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水島 一郎
(株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター
著作論文
- CMOSデバイスにおける酸化膜欠陥のインプロセススクリーニング技術の検討
- ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD-2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
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- CMOSデバイスにおける酸化膜欠陥のインプロセススクリーニング技術の検討
- 単結晶浮遊ゲート電極を用いた不揮発性メモリセルの検討