中嶋 一明 | 東芝 セミコンダクター社

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概要

• 同名の論文著者
• 東芝 セミコンダクター社の論文著者

関連著者

• 中嶋 一明

  東芝

• 中嶋 一明

  東芝 セミコンダクター社

• 齋藤 友博

  東芝 セミコンダクター社

• 犬宮 誠治

  (株)東芝セミコンダクター社 プロセス技術開発センター

• 犬宮 誠治

  東芝

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 後藤 正和

  セミコンダクター社半導体研究開発センター株式会社東芝

• 川中 繁

  セミコンダクター社半導体研究開発センター株式会社東芝

• 齋藤 友博

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中嶋 一明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 飯沼 俊彦

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 青山 知憲

  (株)東芝セミコンダクター社

• 須黒 恭一

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 辰村 光介

  研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー株式会社東芝

• 赤坂 泰志

  東京エレクトロン株式会社

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 長友 浩二

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 長友 浩二

  東芝

• 辰村 光介

  (株)東芝研究開発センター

• 後藤 正和

  筑波大学電子・物理工学専攻

• 後藤 正和

  徳島大学外科

• 松岡 史倫

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 東 篤志

  東芝セミコンダクター社

• 中嶋 一明

  (株)東芝

• 小山 正人

  (株)東芝研究開発センター

• 東 篤志

  東芝

• 松岡 史倫

  東芝

• 市原 玲華

  (株)東芝研究開発センター

• 大野 圭一

  ソニー株式会社コンスーマプロダクツ&デバイスグループ半導体事業本部セミコンダクタテクノロジー開発部門

• 豊島 義明

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 村越 篤

  (株)東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 斎藤 正樹

  ソニー(株)

• 濱口 雅史

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムlsi事業部

• 尾本 誠一

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 谷口 修一

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 小澤 良夫

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 渡辺 竜太

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 大石 周

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岩井 正明

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岡山 康則

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 菰田 泰生

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 英保 亜弓

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 森本 類

  ソニー株式会社

• 竹川 陽一

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 深作 克彦

  ソニー株式会社

• 山田 誠司

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 長島 直樹

  ソニー株式会社

• 岡山 康則

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 大石 周

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 小野 高稔

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中山 和宏

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 渡辺 竜太

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 英保 亜弓

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 菰田 泰生

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 木村 泰己

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 竹川 陽一

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 青山 知憲

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 大島 享介

  ソニー株式会社 半導体事業グループ

• 齋藤 正樹

  ソニー株式会社 半導体事業グループ

• 岩井 正明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 山田 誠司

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 矢野 博之

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 川中 繁

  (株)東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 佐々木 俊行

  (株)東芝セミコンダクター社

• 大野 圭一

  ソニー株式会社

• 八木下 淳史

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠治

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 村越 篤

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 赤坂 泰志

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 南幅 学

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 松井 之輝

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• HIEDA Katsuhiko

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 有門 経敏

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 奥村 勝弥

  株式会社東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 小野 高稔

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 大島 享介

  ソニー株式会社

• 土屋 義規

  (株)東芝 研究開発センター

• 綱島 祥隆

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 福島 崇

  東芝

• 野町 映子

  東芝

• 小野田 裕之

  東芝

• 吉水 康人

  東芝

• 関根 克行

  東芝 セミコンダクター社

• 有門 経敏

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 奥村 勝弥

  東京大学先端科学技術研究センター

• 後藤 正和

  (株)東芝セミコンダクター社

• 鈴木 正道

  (株)東芝 研究開発センター

• 佐々木 俊行

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 上牟田 雄一

  半導体MIRAI-ASET

• 小澤 良夫

  株式会社東芝

• 小野田 裕之

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 宮野 清孝

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 中嶋 一明

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 後藤 正和

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 川中 繁

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 小池 正浩

  (株)東芝研究開発センター

• 上牟田 雄一

  (株)東芝研究開発センター

• 吉水 康人

  (株)東芝セミコンダクター社

• 福島 崇

  (株)東芝セミコンダクター社

• 野町 映子

  (株)東芝セミコンダクター社

• 中村 典生

  Necエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 宮野 清孝

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 東 篤志

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 須黒 恭一

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 松永 範昭

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 松永 範昭

  東芝

• 猪原 正弘

  東芝

• 中山 武雄

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 小島 健嗣

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岩本 敏幸

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 中原 寧

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 北野 友久

  Necエレクトロニクス株式会社

• 齋藤 友博

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 八木下 淳史

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中嶋 一明

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 犬宮 誠冶

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 飯沼 俊彦

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 村越 篤

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 赤坂 泰志

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 小澤 良夫

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 南幅 学

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松井 之輝

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 尾本 誠一

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 矢野 博之

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• HIEDA Katsuhiko

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 綱島 祥隆

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 須黒 恭一

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 有門 経敏

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 奥村 勝弥

  株式会社 東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 青田 正司

  東芝セミコンダクター社 システムLSI技術開発統括部

• 佐々木 俊行

  東芝

• 青田 正司

  東芝

• 樋浦 洋平

  (株)東芝 デバイス技術研究所

• 岩本 敏幸

  NEC シリコンシステム研究所

• 赤坂 泰志

  (株)東芝

• 赤坂 泰志

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 須黒 恭一

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 末広 信太郎

  東芝北九州工場

• 犬宮 誠治

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 古賀 淳二

  東芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー

• 長谷川 英司

  Nec Electronics Corporation

• 西山 彰

  東京工業大学大学院総合理工学研究科

• 須黒 恭一

  (株)東芝

• 佐藤 基之

  東芝 セミコンダクター社

• 成瀬 宏

  東芝株式会社

• 長谷川 俊介

  東芝

• 北村 陽介

  東芝

• 高畑 和宏

  東芝

• 岡本 浩樹

  東芝

• 宮下 桂

  東芝

• 石田 達也

  東芝

• 原川 秀明

  東芝

• 石塚 竜嗣

  東芝

• 小向 敏章

  東芝

• 三本木 省次

  東芝

• 中塚 圭祐

  東芝

• 西郡 正人

  東芝

• 小川 竜二

  東芝

• 岡本 晋太郎

  東芝

• 岡野 公俊

  東芝

• 沖 知普

  東芝

• 佐竹 正城

  東芝

• 鈴木 陽子

  東芝

• 内海 邦明

  東芝

• 渡部 忠兆

  東芝

• 平井 友洋

  NEC Electronics Corporation

• 相澤 宏一

  NEC Electronics Corporation

• 岩本 敏幸

  NEC Electronics Corporation

• 刈谷 奈由太

  NEC Electronics Corporation

• 村松 諭

  NEC Electronics Corporation

• 永原 誠司

  NEC Electronics Corporation

• 中原 寧

  NEC Electronics Corporation

• 岡田 紀雄

  NEC Electronics Corporation

• 鈴木 達也

  NEC Electronics Corporation

• 田上 政由

  NEC Electronics Corporation

• 竹田 和浩

  NEC Electronics Corporation

• 田中 聖康

  NEC Electronics Corporation

• 谷口 謙介

  NEC Electronics Corporation

• 富永 誠

  NEC Electronics Corporation

• 筒井 元

  NEC Electronics Corporation

• 渡辺 普

  NEC Electronics Corporation

• 北野 友久

  NEC Electronics Corporation

• 後藤 啓郎

  NEC Electronics Corporation

• 中村 典生

  NEC Electronics Corporation

• 古賀 淳二

  東芝 研究開発センター

• 相澤 宏一

  NECエレクトロニクス株式会社先端デバイス開発部

• 渡部 忠兆

  株式会社東芝半導体研究開発センター

• 石原 貴光

  研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー株式会社東芝

• 犬宮 誠治

  セミコンダクター社プロセス技術推進センター株式会社東芝

• 中嶋 一明

  セミコンダクター社プロセス技術推進センター株式会社東芝

• 金子 明生

  セミコンダクター社プロセス技術推進センター株式会社東芝

• 木下 敦寛

  研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー株式会社東芝

• 北野 友久

  日本電気(株)

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著作論文

• 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果
• ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD-2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
• ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
• ポリメタルゲート電極技術
• W/poly-Si 積層構造による低抵抗ゲート電極(poly-metal ゲート)
• 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 最先端リソグラフィー技術と Gate-first MG/HK プロセス技術を用いたコスト競争力のある32nm世代 CMOS Platform Technology
• 最近の展望 メタルゲート技術の最近の展望
• ED2000-138 / SDM2000-120 / ICD2000-74 ダマシンメタルゲートトランジスタ技術 : しきい値バラツキの低減とソースドレインサリサイドのインテグレーション
• 極微細TaC_x/HfSiONデバイスの性能および歪み効果に対するTaC_x組成の影響(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
• LaまたはAl添加によるHfSiON/SiO_2界面のダイポール変調に起因する移動度低下と閾値電圧シフトとの相関関係(レギュラーセッション,ゲート絶縁薄膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
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• 32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化(デバイス,VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 32nm世代以降のCMOS向けメタルゲート/High-k絶縁膜技術の導入によるMOSFET特性の変化(デバイス, VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 界面物理現象理解に基づいたNi-FUSI/SiON及びHfSiON界面の実効仕事関数制御技術
• 22nm世代システムLSIに向けたhigh-k/メタルゲートデバイス技術

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