岡山 康則 | (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

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概要

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関連著者

• 岡山 康則

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 松岡 史倫

  東芝

• 大野 圭一

  ソニー株式会社コンスーマプロダクツ&デバイスグループ半導体事業本部セミコンダクタテクノロジー開発部門

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 斎藤 正樹

  ソニー(株)

• 岩井 正明

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 菰田 泰生

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 竹川 陽一

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 深作 克彦

  ソニー株式会社

• 山田 誠司

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 長島 直樹

  ソニー株式会社

• 大野 圭一

  ソニー株式会社

• 渡辺 竜太

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 英保 亜弓

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 森本 類

  ソニー株式会社

• 大島 享介

  ソニー株式会社

• 木村 泰己

  (株)東芝セミコンダクタ社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部

• 大石 周

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 岩本 俊幸

  Necエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 松岡 史倫

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 濱口 雅史

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムlsi事業部

• 山崎 博之

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 松本 拓治

  三菱電機株式会社ULSI技術開発センター

• 松本 拓治

  ソニー株式会社

• 谷口 修一

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 太田 和伸

  ソニー株式会社

• 齋藤 友博

  東芝 セミコンダクター社

• 佐貫 朋也

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 横山 孝司

  ソニー株式会社

• 猪熊 英幹

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 岩佐 誠一

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 岩井 正明

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 岡山 康則

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 齋藤 友博

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 大石 周

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 中嶋 一明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 松尾 浩司

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 小野 高稔

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 中山 和宏

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 渡辺 竜太

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 英保 亜弓

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 菰田 泰生

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 木村 泰己

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 竹川 陽一

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 青山 知憲

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 飯沼 俊彦

  株式会社東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 大島 享介

  ソニー株式会社 半導体事業グループ

• 齋藤 正樹

  ソニー株式会社 半導体事業グループ

• 岩井 正明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 山田 誠司

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 青山 知憲

  (株)東芝セミコンダクター社

• 小野 高稔

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 中嶋 一明

  東芝

• 中嶋 一明

  東芝 セミコンダクター社

• 佐貫 朋也

  株式会社東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 佐藤 力

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 池田 昌弘

  Necエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 石丸 一成

  (株)東芝セミコンダクター社

• 藤田 繁

  ソニー株式会社

• 新居 英明

  (株)東芝セミコンダクタ社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部

• 吉田 健司

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 今井 清隆

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 山崎 崇

  ソニー株式会社

• 岩本 俊幸

  NECエレクトロニクス株式会社

• 藤巻 剛

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 木村 泰巳

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 渡辺 竜二

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 相川 恒

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 山口 理恵

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 大島 亮介

  ソニー株式会社

• 鉢峰 清太

  ソニー株式会社

• 十河 康則

  ソニー株式会社

• 志野 誠也

  ソニー株式会社

• 金井 貞夫

  ソニー株式会社

• 高橋 誠司

  ソニー株式会社

• 前田 英訓

  ソニー株式会社

• 岩田 敏彦

  ソニー株式会社

• 大石 要

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 東郷 光洋

  NECエレクトロニクス株式会社

• 高須 靖夫

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 松尾 浩二

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 佐藤 力

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 中澤 正志

  ソニー株式会社

• 片桐 孝浩

  ソニー株式会社

• 中澤 圭一

  ソニー株式会社

• 新山 卓

  ソニー株式会社

• 手塚 友樹

  ソニー株式会社

• 香川 恵永

  ソニー株式会社

• 長岡 弘二郎

  ソニー株式会社

• 村松 諭

  NECエレクトロニクス株式会社

• 三本木 省二

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 吉田 健司

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 須之内 一正

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 斉藤 正樹

  ソニー株式会社

• 榎本 容幸

  ソニー株式会社

• 成瀬 宏

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 桑田 孝明

  NECエレクトロニクス株式会社

• 藤巻 剛

  (株)東芝セミコンダクター社

• 岩本 敏幸

  NEC Electronics Corporation

• 村松 諭

  NEC Electronics Corporation

• 古田 健司

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 池田 昌弘

  Necエレクトロニクス

• 成瀬 宏

  東芝

• 相川 恒

  株式会社東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岩本 俊幸

  Nec Electronics Corporation

• 三本木 省二

  東芝

• 須之内 一正

  (株)東芝セミコンダクター社

• 石内 秀美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 各務 正一

  株式会社東芝セミコンダクタ社

• 宮島 秀史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 松下 貴哉

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 岩本 敏幸

  NECエレクトロニクス先端デバイス開発事業部

• 大石 周

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部

• 藤井 修

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部

• 猪熊 英幹

  プロセス技術推進センター

• 江田 健太郎

  プロセス技術推進センター

• 伊高 利昭

  プロセス技術推進センター

• 宮島 秀史

  プロセス技術推進センター

• 岩佐 誠一

  プロセス技術推進センター

• 山崎 博之

  プロセス技術推進センター

• 大内 和也

  SoC研究開発センター

• 松尾 浩司

  プロセス技術推進センター

• 永野 元

  プロセス技術推進センター

• 清水 敬

  プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  プロセス技術推進センター

• 鈴木 隆志

  プロセス技術推進センター

• 矢橋 勝典

  プロセス技術推進センター

• 堀内 淳

  ソニー株式会社半導体事業グループセミコンダクタテクノロジー開発本部

• 佐喜 和朗

  プロセス技術推進センター

• 森 伸二

  プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  プロセス技術推進センター

• 斎藤 正樹

  ソニー株式会社半導体事業グループセミコンダクタテクノロジー開発本部

• 笠井 邦弘

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 宮野 清孝

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 石内 秀美

  東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 石内 秀美

  (株)東芝

• 水島 一郎

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 川崎 博久

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 伊高 利昭

  (株)東芝セミコンダクター社

• 岩本 敏幸

  NEC シリコンシステム研究所

• 矢橋 勝典

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 海野 ゆかり

  東芝マイクロエレクトロニクス

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 高橋 稔

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 神田 昌彦

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 川崎 博久

  (株)東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 深浦 康弘

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 磯辺 和亜樹

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 野原 晴男

  (株)東芝セミコンダクター社メモリ事業部

• 門馬 好広

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス

• 西郡 正人

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 各務 正ー

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 藤井 修

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムlsi デバイス技術開発部

• 岡山 康則

  東芝セミコンダクタ一社

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 海野 ゆかり

  東芝マイクロエレクトロニクス(株)

• 清水 敬

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 西郡 正人

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 藤井 修

  (株)東芝

• 笠井 邦弘

  (株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

• 神田 昌彦

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

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著作論文

• 高NA(1.07)液浸リソグラフィ技術を用いた45nm世代高性能システムLSIプラットフォーム技術(CMOS6)(IEDM(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
• 高NA(1.07)液浸リソグラフィ技術を用いた45nm世代高性能システムLSIプラットフォーム技術(CMOS6)
• 高性能45nmノードCMOSFET技術とストレス印加による移動度向上技術のスケーラビリティ(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
• 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果
• 45nm世代のLSTP SRAMへのNi FUIS電極適用によるしきい値ばらつき抑制効果(VLSI回路,デバイス技術(高速,低電圧,低消費電力))
• 90nm世代におけるSoC向け高集積混載SRAM技術(MRAM,不揮発メモリ,メモリ,一般)
• 完全CMOSプロセスを用いたバイポーラ搭載高速キャッシュSRAM製造プロセスの開発

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