宮島 秀史 | (株)東芝セミコンダクター社

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概要

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• (株)東芝セミコンダクター社の論文著者

関連著者

• 宮島 秀史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 柴田 英毅

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 榎本 容幸

  ソニー株式会社

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 松永 範昭

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 依田 孝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 松永 範昭

  東芝

• 矢野 博之

  東芝

• 矢野 博之

  (株)東芝セミコンダクター社

• 島山 努

  ソニー(株)

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社

• 渡邉 桂

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 梶田 明広

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 蜂谷 貴世

  東芝

• 早坂 伸夫

  東芝

• 金村 龍一

  ソニー

• 蜂谷 貴世

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 金村 龍一

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 早坂 伸夫

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 島田 美代子

  東芝株式会社

• 宮島 秀史

  東芝株式会社

• 本多 健二

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 柴田 英毅

  (株)東芝セミコンダクター社

• 柴田 英毅

  (株)東芝 プロセス技術研究所

• 島田 美代子

  (株)東芝セミコンダクター社

• 渡邉 桂

  (株)東芝セミコンダクター社

• 臼井 孝公

  (株)東芝セミコンダクター社

• 藤田 敬次

  東芝

• 伊藤 祥代

  東芝

• 猪原 正弘

  東芝

• 上條 浩幸

  東芝

• 中田 錬平

  東芝

• 門村 新吾

  ソニー

• 藤田 敬次

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 伊藤 祥代

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 田渕 清隆

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 上條 浩幸

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 中田 錬平

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 佐藤 誠一

  岩手東芝エレクトロニクス(株)

• 下岡 義明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 宇佐美 達矢

  NECエレクトロニクス(株)

• 長谷川 利昭

  ソニー(株)

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 香川 恵永

  ソニー株式会社

• 山田 誠司

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 長島 直樹

  ソニー株式会社

• 矢野 博之

  (株)東芝

• 秋山 和隆

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 伊高 利昭

  (株)東芝セミコンダクター社

• 榎本 容幸

  ソニー(株)

• 宇佐美 達矢

  Necエレクトロニクス株式会社

• 亀嶋 隆季

  ソニー株式会社

• 増田 秀顕

  東芝株式会社

• 佐藤 誠一

  岩手東芝エレクトニクス株式会社プロセス生産技術部

• 門村 新吾

  ソニー(株)ssncセミコンダクタテクノロジー開発本部プロセスプラットフォーム部門

• 臼井 孝公

  株式会社東芝セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 渡邉 桂

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 大野 圭一

  ソニー株式会社コンスーマプロダクツ&デバイスグループ半導体事業本部セミコンダクタテクノロジー開発部門

• 松田 聡

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 田上 政由

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 関根 誠

  NECエレクトロニクス株式会社

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 吉田 毅

  九州大学医学部附属病院放射線科

• 斎藤 正樹

  ソニー(株)

• 松田 聡

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部

• 土生 真理子

  (株)東芝マイクロエレクトロニクス研究所

• 松永 範昭

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 林 裕美

  (株)東芝セミコンダクター社

• 津村 一道

  (株)東芝セミコンダクター社

• 中村 直文

  (株)東芝セミコンダクター社

• 宮島 秀史

  東芝

• 渡邉 桂

  東芝

• 秋山 和隆

  東芝

• 東 和幸

  東芝

• 中村 直文

  東芝

• 梶田 明広

  東芝

• 本多 健二

  東芝

• 柴田 英毅

  東芝

• 依田 孝

  東芝

• 田渕 清隆

  ソニー

• 島山 努

  ソニー

• 榎本 容幸

  ソニー

• 長谷川 利昭

  ソニー

• 宮島 秀史

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 渡邉 桂

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 島山 努

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 秋山 和隆

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 東 和幸

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 中村 直文

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 梶田 明広

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 松永 範昭

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 榎本 容幸

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 本多 健二

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 矢野 博之

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 長谷川 利昭

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 門村 新吾

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 柴田 英毅

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 依田 孝

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 下岡 義明

  (株)東芝

• 東 和幸

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 宮島 秀史

  株式会社東芝 セニコンダクター社プロセス技術推進センター

• 岡本 裕

  ソニー(株) コアテクノロジー&ネットワークカンパニー Sc プロセス開発部

• 側瀬 聡文

  東芝株式会社

• 山崎 博之

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 松本 拓治

  三菱電機株式会社ULSI技術開発センター

• 西岡 岳

  (株)東芝機械・システムラボラトリー

• 松下 貴哉

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 松本 拓治

  ソニー株式会社

• 蓮沼 正彦

  (株)東芝セミコンダクター社

• 北野 友久

  NECエレクトロニクス(株)

• 太田 和伸

  ソニー株式会社

• 大石 周

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岩井 正明

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 北野 友久

  Necエレクトロニクス株式会社

• 佐貫 朋也

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 岡山 康則

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 菰田 泰生

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 横山 孝司

  ソニー株式会社

• 竹川 陽一

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 深作 克彦

  ソニー株式会社

• 猪熊 英幹

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 岩佐 誠一

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 岩井 正明

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 松岡 史倫

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 大石 周

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部

• 藤井 修

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部

• 猪熊 英幹

  プロセス技術推進センター

• 江田 健太郎

  プロセス技術推進センター

• 伊高 利昭

  プロセス技術推進センター

• 宮島 秀史

  プロセス技術推進センター

• 岩佐 誠一

  プロセス技術推進センター

• 山崎 博之

  プロセス技術推進センター

• 大内 和也

  SoC研究開発センター

• 松尾 浩司

  プロセス技術推進センター

• 永野 元

  プロセス技術推進センター

• 清水 敬

  プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  プロセス技術推進センター

• 鈴木 隆志

  プロセス技術推進センター

• 矢橋 勝典

  プロセス技術推進センター

• 堀内 淳

  ソニー株式会社半導体事業グループセミコンダクタテクノロジー開発本部

• 佐喜 和朗

  プロセス技術推進センター

• 森 伸二

  プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  プロセス技術推進センター

• 斎藤 正樹

  ソニー株式会社半導体事業グループセミコンダクタテクノロジー開発本部

• 長島 直樹

  ソニー(株)

• 野口 達夫

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 宮野 清孝

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 大野 圭一

  ソニー株式会社

• 水島 一郎

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 長谷川 利昭

  ソニー厚木

• 吉田 毅

  広島大学先端物質科学研究科

• 中崎 靖

  (株)東芝 LSI基盤技術ラボラトリー

• 増田 秀顕

  (株)東芝セミコンダクター社

• 亀嶋 隆季

  ソニー(株)

• 香川 恵永

  ソニー(株)

• 宮嶋 秀史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 矢橋 勝典

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 渡邊 桂

  東芝株式会社

• 中村 直文

  東芝株式会社

• 成瀬 宏

  東芝株式会社

• 北野 友久

  NEC Electronics Corporation

• 吉田 毅

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部

• 松岡 史倫

  東芝

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 林 裕美

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 早坂 伸夫

  (株)東芝 UL研

• 北野 友久

  日本電気(株)

• 本多 健二

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 神田 昌彦

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 石塚 竜嗣

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 森内 真優美

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 松原 義徳

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 橘高 秀吉

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 蜂谷 貴世

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 金村 龍一

  ソニー(株)セミコンダクタソリューションネットワークカンパニーセミコンダクタテクノロジー開発部

• 成瀬 宏

  東芝

• 吉田 毅

  産業医科大学泌尿器科学教室

• 藤井 修

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムlsi デバイス技術開発部

• 田上 政由

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 勝又 竜太

  (株)東芝

• 佐貫 朋也

  株式会社東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 西岡 岳

  (株)東芝

• 西岡 岳

  (株)東芝セミコンダクター社

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 土生 真理子

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部

• 中崎 靖

  (株)東芝

• 中崎 靖

  東芝

• 早坂 伸夫

  (株)東芝

• 清水 敬

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 松岡 史倫

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 松永 範昭

  (株)東芝セミコンダクタ一社

• 岡本 裕

  ソニー(株)セミコンダクタソリューションネットワークカンパニーセミコンダクタテクノロジー開発部

• 藤井 修

  (株)東芝

• 神田 昌彦

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 林 裕美

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

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著作論文

• 多層銅配線とハイブリッドLow-k構造(porous-PAr/porous-SiOC(k=2.3/2.3)を用いた密着性の研究と密着性エネルギーの改善(配線・実装技術と関連材料技術)
• Ultra Low-k 膜(k=2.0)及び選択的バリア層CuSiNを適用した32nm世代向けCu配線技術
• RIEプラズマ耐性の持つ、ポーラスPE-CVD SiOC膜(k
• 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術における low-k 絶縁膜技術
• 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術におけるlow-k絶縁膜技術
• MSQ膜を用いたCuダマシン配線プロセスにおける積層剥がれ現象
• MSQ膜を用いたCuダマシン配線プロセスにおける積層剥がれ現象( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
• 高性能45nmノードCMOSFET技術とストレス印加による移動度向上技術のスケーラビリティ(先端CMOSデバイス・プロセス技術)
• 45nm node 向け塗布ポーラス low-k 膜の材料設計
• 65nm世代CMOSプラットホームの多層プロセスの開発について : ハイブリッド多層構造の量産実用化(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• 高性能配線技術 (特集 半導体プロセス技術)
• 低誘電率F添加SiO_2膜CVD技術

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