岡本 裕 | ソニー(株) コアテクノロジー&ネットワークカンパニー Sc プロセス開発部
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概要
関連著者
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岡本 裕
ソニー(株) コアテクノロジー&ネットワークカンパニー Sc プロセス開発部
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末永 淳
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(株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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(株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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石塚 竜嗣
(株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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森内 真優美
(株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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松原 義徳
(株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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橘高 秀吉
(株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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蜂谷 貴世
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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金村 龍一
ソニー(株)セミコンダクタソリューションネットワークカンパニーセミコンダクタテクノロジー開発部
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吉田 毅
産業医科大学泌尿器科学教室
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角 博文
ソニー株式会社
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田島 和浩
ソニー株式会社セミコンダクターカンパニーシステムLSI部門プロセス開発部
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針渕 英男
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岡本 裕
ソニー株式会社セミコンダクターカンパニーシステムLSI部門プロセス開発部
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土生 真理子
(株)東芝セミコンダクター社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部
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本多 健二
東芝セミコンダクター社システムlsi事業部
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臼井 孝公
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岡本 裕
ソニー(株)セミコンダクタソリューションネットワークカンパニーセミコンダクタテクノロジー開発部
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神田 昌彦
(株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部
著作論文
- 65nm世代CMOSプラットホームの多層プロセスの開発について : ハイブリッド多層構造の量産実用化(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
- サブクオーターミクロンルールのデュアルゲートを伴なったCMOSデバイスに対応したCoサリサイドの開発
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- サブクォータミクロン世代のCMOS素子に対応したTiサリサイドとCoサリサイドプロセスの比較評価