野口 達夫 | (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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概要
関連著者
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野口 達夫
(株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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松原 義徳
(株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部
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蜂谷 貴世
(株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター
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(株)東芝セミコンダクター社システムlsi第一事業部システムlsiデバイス技術開発部
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本多 健二
東芝セミコンダクター社システムlsi事業部
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臼井 孝公
株式会社東芝セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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松岡 史倫
(株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部
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岡本 裕
ソニー(株)セミコンダクタソリューションネットワークカンパニーセミコンダクタテクノロジー開発部
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笠井 邦弘
(株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター
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神田 昌彦
(株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部
著作論文
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- 歪みSi CMOSFETのスケーラビリティと40nmゲート長の高性能な歪みSi CMOSFET技術(IEDM特集:先端CMOSデバイス・プロセス技術)
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- 65nm世代CMOSプラットホームの多層プロセスの開発について : ハイブリッド多層構造の量産実用化(ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)