大石 周 | (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部

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概要

• 同名の論文著者
• (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部の論文著者

関連著者

• 斎藤 正樹

  ソニー(株)

• 大石 周

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岩井 正明

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 佐貫 朋也

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 菰田 泰生

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 岩井 正明

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 長島 直樹

  ソニー株式会社

• 松岡 史倫

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 大石 周

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部

• 大野 圭一

  ソニー株式会社

• 松岡 史倫

  東芝

• 佐貫 朋也

  株式会社東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  (株)東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 大野 圭一

  ソニー株式会社コンスーマプロダクツ&デバイスグループ半導体事業本部セミコンダクタテクノロジー開発部門

• 松尾 浩司

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 宮島 秀史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山崎 博之

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 松本 拓治

  三菱電機株式会社ULSI技術開発センター

• 松下 貴哉

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 松本 拓治

  ソニー株式会社

• 太田 和伸

  ソニー株式会社

• 吉村 尚郎

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 岡山 康則

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 横山 孝司

  ソニー株式会社

• 竹川 陽一

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 深作 克彦

  ソニー株式会社

• 猪熊 英幹

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 岩佐 誠一

  (株)東芝セミコンダクタ社プロセス技術開発センター

• 山田 誠司

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 藤井 修

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部

• 猪熊 英幹

  プロセス技術推進センター

• 江田 健太郎

  プロセス技術推進センター

• 伊高 利昭

  プロセス技術推進センター

• 宮島 秀史

  プロセス技術推進センター

• 岩佐 誠一

  プロセス技術推進センター

• 山崎 博之

  プロセス技術推進センター

• 大内 和也

  SoC研究開発センター

• 松尾 浩司

  プロセス技術推進センター

• 永野 元

  プロセス技術推進センター

• 清水 敬

  プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  プロセス技術推進センター

• 鈴木 隆志

  プロセス技術推進センター

• 矢橋 勝典

  プロセス技術推進センター

• 堀内 淳

  ソニー株式会社半導体事業グループセミコンダクタテクノロジー開発本部

• 佐喜 和朗

  プロセス技術推進センター

• 森 伸二

  プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  プロセス技術推進センター

• 斎藤 正樹

  ソニー株式会社半導体事業グループセミコンダクタテクノロジー開発本部

• 笠井 邦弘

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 吉村 尚朗

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 大野 圭一

  SONY(株)セミコンダクタソリューションズネットワークカンパニー

• 斎藤 正樹

  SONY(株)セミコンダクタソリューションズネットワークカンパニー

• 長島 直樹

  SONY(株)セミコンダクタソリューションズネットワークカンパニー

• 野口 達夫

  (株)東芝セミコンダクター社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 宮野 清孝

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 宮野 清孝

  東芝マイクロエレクトロニクス技術研究所

• 水島 一郎

  株式会社東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 伊高 利昭

  (株)東芝セミコンダクター社

• 矢橋 勝典

  東芝 セミコンダクター社 プロセス技術推進センター

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 藤井 修

  (株)東芝 セミコンダクター社 システムlsi デバイス技術開発部

• 水島 一郎

  東芝セミコンダクター社 プロセス技術推進セ

• 清水 敬

  (株)東芝 セミコンダクター社プロセス技術推進センター

• 藤井 修

  (株)東芝

• 笠井 邦弘

  (株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

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著作論文

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• チャネル方向と構造起因歪みの組み合わせを用いた45nm世代のための高移動度CMOSFET(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))

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