柴田 英毅 | 株式会社東芝セミコンダクター社

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概要

• 柴田 英毅の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 株式会社東芝セミコンダクター社の論文著者

関連著者

• 柴田 英毅

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 松永 範昭

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 松永 範昭

  東芝

• 柴田 英毅

  (株)東芝 プロセス技術研究所

• 柴田 英毅

  (株)東芝セミコンダクター社

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社

• 松永 範昭

  (株)東芝セミコンダクタ一社

• 松永 範昭

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 梶田 明広

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 和田 真

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 渡邉 桂

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 宮島 秀史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 林 裕美

  (株)東芝セミコンダクター社

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 渡邉 桂

  (株)東芝セミコンダクター社

• 依田 孝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 坂田 敦子

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 坂田 敦子

  (株)東芝セミコンダクター社

• 林 裕美

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 坂田 敦子

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 林 裕美

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 中尾 慎一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 松永 範昭

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 島田 美代子

  (株)東芝セミコンダクター社

• 小島 章弘

  (株)東芝セミコンダクター社

• 藤田 敬次

  東芝

• 伊藤 祥代

  東芝

• 蜂谷 貴世

  東芝

• 猪原 正弘

  東芝

• 上條 浩幸

  東芝

• 中田 錬平

  東芝

• 矢野 博之

  東芝

• 早坂 伸夫

  東芝

• 金村 龍一

  ソニー

• 門村 新吾

  ソニー

• 藤田 敬次

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 伊藤 祥代

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 田渕 清隆

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 蜂谷 貴世

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 金村 龍一

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 上條 浩幸

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 中田 錬平

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 早坂 伸夫

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 佐藤 誠一

  岩手東芝エレクトロニクス(株)

• 下岡 義明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 長谷川 利昭

  ソニー(株)

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 榎本 容幸

  ソニー株式会社

• 矢野 博之

  (株)東芝セミコンダクター社

• 島山 努

  ソニー(株)

• 秋山 和隆

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 中尾 慎一

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 佐藤 誠一

  岩手東芝エレクトニクス株式会社プロセス生産技術部

• 門村 新吾

  ソニー(株)ssncセミコンダクタテクノロジー開発本部プロセスプラットフォーム部門

• 本多 健二

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 古山 英人

  (株)東芝セミコンダクター社

• 渡邉 桂

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 中尾 慎一

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 小島 章弘

  (株)東芝 半導体研究開発センター

• 島田 美代子

  (株)東芝 半導体研究開発センター

• 古山 英人

  (株)東芝 半導体研究開発センター

• 青木 伸俊

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 豊島 義明

  (株)東芝 セミコンダクター社SoC研究開発センター

• 林 久貴

  (株)東芝セミコンダクター社

• 来栖 貴史

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 谷本 弘吉

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 中村 直文

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 和田 真

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 上夏井 健

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 渡邊 桂

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 津村 一道

  (株)東芝セミコンダクター社

• 臼井 孝公

  (株)東芝セミコンダクター社

• 中村 直文

  (株)東芝セミコンダクター社

• 久保田 和宏

  東京エレクトロンAT(株)

• 浅子 竜一

  東京エレクトロン(株)

• 前川 薫

  東京エレクトロン(株)

• 大岩 徳久

  (株)東芝セミコンダクター社

• 宮島 秀史

  東芝

• 渡邉 桂

  東芝

• 秋山 和隆

  東芝

• 東 和幸

  東芝

• 中村 直文

  東芝

• 梶田 明広

  東芝

• 本多 健二

  東芝

• 柴田 英毅

  東芝

• 依田 孝

  東芝

• 田渕 清隆

  ソニー

• 島山 努

  ソニー

• 榎本 容幸

  ソニー

• 長谷川 利昭

  ソニー

• 宮島 秀史

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 渡邉 桂

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 島山 努

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 秋山 和隆

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 東 和幸

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 中村 直文

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 梶田 明広

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 松永 範昭

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 榎本 容幸

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 本多 健二

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 矢野 博之

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 長谷川 利昭

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 門村 新吾

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 柴田 英毅

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 依田 孝

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 山口 人美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 尾本 誠一

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 堅田 富夫

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 下岡 義明

  (株)東芝

• 東 和幸

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 宮島 秀史

  株式会社東芝 セニコンダクター社プロセス技術推進センター

• 福原 成太

  (株)東芝 半導体生産技術推進センター

• 大宅 克彦

  (株)東芝 半導体生産技術推進センター

• 益川 和之

  (株)東芝 半導体生産技術推進センター

• 大塚 賢一

  (株)東芝 半導体生産技術推進センター

• 尾本 誠一

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山田 雅基

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山口 人美

  (株)東芝セミコンダクター社

• 青木 伸俊

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 青木 伸俊

  マイクロエレクトロニクス研

• 青木 伸俊

  (株)東芝soc開発センター

• 豊島 義明

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 加藤 賢

  (株)東芝セミコンダクター社

• 長谷川 利昭

  ソニー厚木

• 島田 美代子

  東芝株式会社

• 島田 美代子

  (株)半導体先端テクノロジーズ(Selete)

• 青木 伸俊

  東芝セミコンダクター社半導体研究開発センター

• 樋口 和人

  (株)東芝 材料・デバイス研究所

• 古山 英人

  (株)東芝材料部品開発・試作センター

• 大岩 徳久

  東芝セミコンダクター社

• 臼井 孝公

  株式会社東芝セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 和田 真

  (株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 山田 雅基

  (株) 東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 東 和幸

  (株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 梶田 明広

  (株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 柴田 英毅

  (株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 渡邊 桂

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 谷本 弘吉

  (株)東芝セミコンダクター社soc研究開発センター

• 杉崎 吉昭

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 秋元 陽介

  (株)東芝 半導体研究開発センター

• 富澤 英之

  (株)東芝 半導体研究開発センター

• 小幡 進

  (株)東芝 生産技術センター

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著作論文

• Ultra Low-k 膜(k=2.0)及び選択的バリア層CuSiNを適用した32nm世代向けCu配線技術
• 微細金属配線における抵抗率のサイズ効果予測のためのモンテカルロ・シミュレーション(プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
• 一括後抜きプロセスを用いた低コストエアギャップ配線技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• ポーラス Low-k/Cu 配線におけるダメージ修復技術
• 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術における low-k 絶縁膜技術
• 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術におけるlow-k絶縁膜技術
• 45nmノード向け高信頼Cuデュアルダマシン配線のためのPVD/ALD/PVD積層バリアメタル構造
• MSQ膜を用いたCuダマシン配線プロセスにおける積層剥がれ現象
• MSQ膜を用いたCuダマシン配線プロセスにおける積層剥がれ現象( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
• 高性能Cu配線に向けたAlピラー技術
• F_2 (Ar) プラズマ前処理を用いたTiN上への選択Wヴィアプラグ形成
• 低抵抗・高信頼Cu配線のためのシリサイドキャップ技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• 次世代LSIバックエンドに向けた光配線技術
• 超微細Cu配線における電気抵抗率上昇の検討
• 低抵抗・高信頼Cu配線のためのシリサイドキャップ技術
• CuSiN/Cu/Ti系バリア構造におけるCu表面酸化層のEM信頼性へ与える影響(配線・実装技術と関連材料技術)
• 白色LED向け高放熱性ウエーハレベル・チップスケール・パッケー・ジの開発(配線・実装技術と関連材料技術)

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