超微細Cu配線における電気抵抗率上昇の検討
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概要
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- 2008-07-10
著者
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柴田 英毅
株式会社東芝セミコンダクター社
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和田 真
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
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梶田 明広
(株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター
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山田 雅基
(株)東芝セミコンダクター社
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東 和幸
(株)東芝セミコンダクター社
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和田 真
(株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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山田 雅基
(株) 東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部
-
東 和幸
(株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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梶田 明広
(株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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柴田 英毅
(株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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