東 和幸 | (株)東芝セミコンダクター社

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概要

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• 同名の論文著者
• (株)東芝セミコンダクター社の論文著者

関連著者

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社

• 柴田 英毅

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 松永 範昭

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 松永 範昭

  東芝

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 梶田 明広

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 柴田 英毅

  (株)東芝セミコンダクター社

• 柴田 英毅

  (株)東芝 プロセス技術研究所

• 宮島 秀史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 長谷川 利昭

  ソニー(株)

• 松永 範昭

  (株)東芝セミコンダクタ一社

• 松永 範昭

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 山口 人美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 坂田 敦子

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 羽多野 正亮

  (株)東芝セミコンダクター社

• 和田 純一

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山田 雅基

  (株)東芝セミコンダクター社

• 蓮沼 正彦

  (株)東芝セミコンダクター社

• 坂田 敦子

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山口 人美

  (株)東芝セミコンダクター社

• 榎本 容幸

  ソニー株式会社

• 秋山 和隆

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 本多 健二

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 坂田 敦子

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 依田 孝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 藤田 敬次

  東芝

• 伊藤 祥代

  東芝

• 蜂谷 貴世

  東芝

• 猪原 正弘

  東芝

• 上條 浩幸

  東芝

• 中田 錬平

  東芝

• 矢野 博之

  東芝

• 早坂 伸夫

  東芝

• 金村 龍一

  ソニー

• 門村 新吾

  ソニー

• 藤田 敬次

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 伊藤 祥代

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 田渕 清隆

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 蜂谷 貴世

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 金村 龍一

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 上條 浩幸

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 中田 錬平

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 早坂 伸夫

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 尾本 誠一

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 佐藤 誠一

  岩手東芝エレクトロニクス(株)

• 下岡 義明

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 尾本 誠一

  (株)東芝セミコンダクター社

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 矢野 博之

  (株)東芝セミコンダクター社

• 藤巻 剛

  (株)東芝セミコンダクター社

• 島山 努

  ソニー(株)

• 佐藤 誠一

  岩手東芝エレクトニクス株式会社プロセス生産技術部

• 渡邉 桂

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 門村 新吾

  ソニー(株)ssncセミコンダクタテクノロジー開発本部プロセスプラットフォーム部門

• 田上 政由

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 和田 真

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 松永 範昭

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 中村 直文

  (株)東芝セミコンダクター社

• 宮島 秀史

  東芝

• 渡邉 桂

  東芝

• 秋山 和隆

  東芝

• 東 和幸

  東芝

• 中村 直文

  東芝

• 梶田 明広

  東芝

• 本多 健二

  東芝

• 柴田 英毅

  東芝

• 依田 孝

  東芝

• 田渕 清隆

  ソニー

• 島山 努

  ソニー

• 榎本 容幸

  ソニー

• 長谷川 利昭

  ソニー

• 宮島 秀史

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 渡邉 桂

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 島山 努

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 秋山 和隆

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 東 和幸

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 中村 直文

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 梶田 明広

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 松永 範昭

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 榎本 容幸

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 本多 健二

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 矢野 博之

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 長谷川 利昭

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 門村 新吾

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 柴田 英毅

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 依田 孝

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 堅田 富夫

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 下岡 義明

  (株)東芝

• 東 和幸

  株式会社東芝 セミコンダクター社 システムLSI開発センター

• 宮島 秀史

  株式会社東芝 セニコンダクター社プロセス技術推進センター

• 福原 成太

  (株)東芝 半導体生産技術推進センター

• 大宅 克彦

  (株)東芝 半導体生産技術推進センター

• 益川 和之

  (株)東芝 半導体生産技術推進センター

• 大塚 賢一

  (株)東芝 半導体生産技術推進センター

• 金子 尚史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山下 創一

  (株)東芝セミコンダクター社

• 用正 武

  (株)東芝セミコンダクター社

• 今水 健太郎

  (株)東芝セミコンダクター社

• 高橋 新吾

  ソニー(株)

• 山田 敦彦

  ソニー(株)

• 本山 幸一

  NECエレクトロニクス(株)

• 北野 友久

  NECエレクトロニクス(株)

• 吉田 健司

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 岩井 正明

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 北野 友久

  Necエレクトロニクス株式会社

• 藤巻 剛

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 山田 誠司

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 豊田 啓

  (株)東芝研究開発センターULSI研究所

• 加藤 賢

  (株)東芝セミコンダクター社

• 大竹 由季恵

  (株)東芝ナノアナリシス

• Yano Y.

  Toshiba Nanoanalysis Corpration

• 川ノ上 孝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山田 周輝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 沖 知普

  (株)東芝セミコンダクター社

• 長谷川 利昭

  ソニー厚木

• 藤巻 剛

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 東 和幸

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 中村 直文

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 松永 範昭

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 吉田 健司

  株式会社 東芝マイクロエレクトロニクス

• 羽多野 正亮

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 蓮沼 正彦

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 和田 純一

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 西岡 岳

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 川島 寛之

  ソニー株式会社 半導体事業グループ

• 長谷川 利昭

  ソニー株式会社 半導体事業グループ

• 本多 健二

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 岩井 正明

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 山田 誠司

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 松岡 史倫

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 川ノ上 孝

  (株)東芝ulsi研究所

• 豊田 啓

  (株)東芝セミコンダクター社

• 本山 幸一

  Necエレクトロニクス

• 北野 友久

  NEC Electronics Corporation

• 古田 健司

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 松岡 史倫

  東芝

• 北野 友久

  日本電気(株)

• 金子 尚史

  (株)東芝 Ul研

• 田上 政由

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 西岡 岳

  (株)東芝セミコンダクター社

• 和田 真

  (株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 山田 雅基

  (株) 東芝 セミコンダクター社 システムLSI事業部

• 東 和幸

  (株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 梶田 明広

  (株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 柴田 英毅

  (株) 東芝 セミコンダクター社 半導体研究開発センター

• 中村 直文

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 豊田 啓

  Toshiba Nanoanalysis Corpration

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著作論文

• Tiバリア表面窒化プロセスによる低抵抗・高信頼性Cu配線の開発(配線・実装技術と関連材料技術)
• 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術における low-k 絶縁膜技術
• 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術におけるlow-k絶縁膜技術
• 45nmノード向け高信頼Cuデュアルダマシン配線のためのPVD/ALD/PVD積層バリアメタル構造
• MSQ膜を用いたCuダマシン配線プロセスにおける積層剥がれ現象
• MSQ膜を用いたCuダマシン配線プロセスにおける積層剥がれ現象( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
• 高性能Cu配線に向けたAlピラー技術
• F_2 (Ar) プラズマ前処理を用いたTiN上への選択Wヴィアプラグ形成
• TiバリアメタルによるCu配線信頼性向上
• 吸湿によるヴィア不良のメカニズム及び45nm世代多層配線デザインへの影響(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• 超微細Cu配線における電気抵抗率上昇の検討

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