坂田 敦子 | (株)東芝セミコンダクター社

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概要

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関連著者

• 坂田 敦子

  (株)東芝セミコンダクター社

• 坂田 敦子

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 和田 真

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 坂田 敦子

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 柴田 英毅

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 柴田 英毅

  (株)東芝 プロセス技術研究所

• 松永 範昭

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 梶田 明広

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 松永 範昭

  東芝

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 山口 人美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 山口 人美

  (株)東芝セミコンダクター社

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社

• 松永 範昭

  (株)東芝セミコンダクタ一社

• 松永 範昭

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 中尾 慎一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 柴田 英毅

  (株)東芝セミコンダクター社

• 林 裕美

  (株)東芝セミコンダクター社

• 尾本 誠一

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 尾本 誠一

  (株)東芝セミコンダクター社

• 羽多野 正亮

  (株)東芝セミコンダクター社

• 和田 純一

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山田 雅基

  (株)東芝セミコンダクター社

• 蓮沼 正彦

  (株)東芝セミコンダクター社

• 酒井 忠司

  (株)東芝 研究開発センター

• 加藤 賢

  (株)東芝セミコンダクター社

• 鈴木 真理子

  株式会社東芝 研究開発センター

• 林 裕美

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 渡邉 桂

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 中尾 慎一

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 林 裕美

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 坂田 敦子

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 北村 政幸

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 梶田 明広

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 和田 真

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 斎藤 達朗

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 山崎 雄一

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 片桐 雅之

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 伊東 伴

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 西出 大亮

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 松本 貴士

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 磯林 厚伸

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 鈴木 真理子

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 渡邉 勝仁

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 佐久間 尚志

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 酒井 忠司

  超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 田上 政由

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 渡邉 桂

  (株)東芝セミコンダクター社

• 中村 直文

  (株)東芝セミコンダクター社

• 堅田 富夫

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 金子 尚史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山下 創一

  (株)東芝セミコンダクター社

• 用正 武

  (株)東芝セミコンダクター社

• 今水 健太郎

  (株)東芝セミコンダクター社

• 高橋 新吾

  ソニー(株)

• 山田 敦彦

  ソニー(株)

• 長谷川 利昭

  ソニー(株)

• 本山 幸一

  NECエレクトロニクス(株)

• 北野 友久

  NECエレクトロニクス(株)

• 北野 友久

  Necエレクトロニクス株式会社

• 藤巻 剛

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 藤巻 剛

  (株)東芝セミコンダクター社

• 豊田 啓

  (株)東芝研究開発センターULSI研究所

• 大竹 由季恵

  (株)東芝ナノアナリシス

• Yano Y.

  Toshiba Nanoanalysis Corpration

• 川ノ上 孝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山田 周輝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 沖 知普

  (株)東芝セミコンダクター社

• 川ノ上 孝

  (株)東芝ulsi研究所

• 豊田 啓

  (株)東芝セミコンダクター社

• 本山 幸一

  Necエレクトロニクス

• 北野 友久

  NEC Electronics Corporation

• 北野 友久

  日本電気(株)

• 中尾 慎一

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 金子 尚史

  (株)東芝 Ul研

• 田上 政由

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 渡邉 桂

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 渡邊 桂

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 豊田 啓

  Toshiba Nanoanalysis Corpration

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著作論文

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• 45nmノード向け高信頼Cuデュアルダマシン配線のためのPVD/ALD/PVD積層バリアメタル構造
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