中村 直文 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ

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概要

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• 株式会社半導体先端テクノロジーズの論文著者

関連著者

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 松永 範昭

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 松永 範昭

  東芝

• 榎本 容幸

  ソニー株式会社

• 柴田 英毅

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 宮島 秀史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 依田 孝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社

• 渡邉 桂

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 中村 直文

  (株)東芝セミコンダクター社

• 矢野 博之

  東芝

• 長谷川 利昭

  ソニー(株)

• 矢野 博之

  (株)東芝セミコンダクター社

• 島山 努

  ソニー(株)

• 秋山 和隆

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 本多 健二

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 小田 典明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 隣 真一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 曽田 栄一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 斎藤 修一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 梶田 明広

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 藤田 敬次

  東芝

• 伊藤 祥代

  東芝

• 蜂谷 貴世

  東芝

• 猪原 正弘

  東芝

• 上條 浩幸

  東芝

• 中田 錬平

  東芝

• 早坂 伸夫

  東芝

• 金村 龍一

  ソニー

• 門村 新吾

  ソニー

• 藤田 敬次

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 伊藤 祥代

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 田渕 清隆

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 蜂谷 貴世

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 金村 龍一

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 上條 浩幸

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 中田 錬平

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 早坂 伸夫

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 宇佐美 達矢

  NECエレクトロニクス(株)

• 側瀬 聡文

  東芝株式会社

• 羽多野 正亮

  (株)東芝セミコンダクター社

• 和田 純一

  (株)東芝セミコンダクター社

• 蓮沼 正彦

  (株)東芝セミコンダクター社

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 藤巻 剛

  (株)東芝セミコンダクター社

• 宇佐美 達矢

  Necエレクトロニクス株式会社

• 島田 美代子

  東芝株式会社

• 門村 新吾

  ソニー(株)ssncセミコンダクタテクノロジー開発本部プロセスプラットフォーム部門

• 窪田 壮男

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 中尾 慎一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 冨岡 和弘

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 野川 潤

  NECエレクトロニクス(株)

• 川島 由嗣

  NECエレクトロニクス(株)

• 林 遼

  NECエレクトロニクス(株)

• 田上 政由

  NECエレクトロニクスLSI基礎開発研究所

• 関根 誠

  NECエレクトロニクス株式会社

• 林 久貴

  (株)東芝セミコンダクター社

• 柴田 英毅

  (株)東芝セミコンダクター社

• 柴田 英毅

  (株)東芝 プロセス技術研究所

• 和田 真

  (株)東芝研究開発センターデバイスプロセス開発センター

• 中村 直文

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 松永 範昭

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 和田 真

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 上夏井 健

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 渡邊 桂

  株式会社東芝セミコンダクター社

• 島田 美代子

  (株)東芝セミコンダクター社

• 渡邉 桂

  (株)東芝セミコンダクター社

• 小島 章弘

  (株)東芝セミコンダクター社

• 久保田 和宏

  東京エレクトロンAT(株)

• 浅子 竜一

  東京エレクトロン(株)

• 前川 薫

  東京エレクトロン(株)

• 大岩 徳久

  (株)東芝セミコンダクター社

• 宮島 秀史

  東芝

• 渡邉 桂

  東芝

• 秋山 和隆

  東芝

• 東 和幸

  東芝

• 中村 直文

  東芝

• 梶田 明広

  東芝

• 本多 健二

  東芝

• 柴田 英毅

  東芝

• 依田 孝

  東芝

• 田渕 清隆

  ソニー

• 島山 努

  ソニー

• 榎本 容幸

  ソニー

• 長谷川 利昭

  ソニー

• 宮島 秀史

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 渡邉 桂

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 島山 努

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 秋山 和隆

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 東 和幸

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 中村 直文

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 梶田 明広

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 松永 範昭

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 榎本 容幸

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 猪原 正弘

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 本多 健二

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 矢野 博之

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 長谷川 利昭

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 門村 新吾

  ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー

• 柴田 英毅

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 依田 孝

  東芝セミコンダクターカンパニー

• 東 和幸

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 山口 人美

  (株)東芝セミコンダクター社SoC研究開発センター高性能CMOSデバイス開発部

• 坂田 敦子

  (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第五部

• 近藤 誠一

  半導体先端テクノロジーズ

• 塩原 守雄

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 山田 雅基

  (株)東芝セミコンダクター社

• 北野 友久

  NECエレクトロニクス(株)

• 青山 肇

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)超微細sr露光技術研究室(pxl研究室)

• 吉田 健司

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 坂田 敦子

  (株)東芝セミコンダクター社

• 岩井 正明

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 松岡 史倫

  東芝セミコンダクター社システムLSI事業部

• 北野 友久

  Necエレクトロニクス株式会社

• 山口 人美

  (株)東芝セミコンダクター社

• 藤巻 剛

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 香川 恵永

  ソニー株式会社

• 山田 誠司

  (株)東芝セミコンダクタ社システムLSI第一事業部システムLSIデバイス技術開発部

• 矢野 博之

  (株)東芝

• 豊田 啓

  (株)東芝研究開発センターULSI研究所

• 加藤 賢

  (株)東芝セミコンダクター社

• 大竹 由季恵

  (株)東芝ナノアナリシス

• Yano Y.

  Toshiba Nanoanalysis Corpration

• 川ノ上 孝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 山田 周輝

  (株)東芝セミコンダクター社

• 沖 知普

  (株)東芝セミコンダクター社

• 長谷川 利昭

  ソニー厚木

• 藤巻 剛

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 東 和幸

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 中村 直文

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 松永 範昭

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 吉田 健司

  株式会社 東芝マイクロエレクトロニクス

• 羽多野 正亮

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 蓮沼 正彦

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 和田 純一

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 西岡 岳

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 川島 寛之

  ソニー株式会社 半導体事業グループ

• 長谷川 利昭

  ソニー株式会社 半導体事業グループ

• 本多 健二

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 岩井 正明

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 山田 誠司

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 松岡 史倫

  株式会社 東芝セミコンダクター社

• 川ノ上 孝

  (株)東芝ulsi研究所

• 豊田 啓

  (株)東芝セミコンダクター社

• 榎本 容幸

  ソニー(株)

• 宮嶋 秀史

  (株)東芝セミコンダクター社

• 渡邊 桂

  東芝株式会社

• 亀嶋 隆季

  ソニー株式会社

• 増田 秀顕

  東芝株式会社

• 中村 直文

  東芝株式会社

• 宮島 秀史

  東芝株式会社

• 成瀬 宏

  東芝株式会社

• 北野 友久

  NEC Electronics Corporation

• 森 一朗

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 古田 健司

  東芝セミコンダクター社システムlsi事業部

• 松岡 史倫

  東芝

• 細井 信基

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 側瀬 聡文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 青山 肇

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 田中 雄介

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 河村 大輔

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 垂水 喜明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 森 一朗

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 細井 信基

  日本電気株式会社先端デバイス開発本部

• 北野 友久

  日本電気(株)

• 成瀬 宏

  東芝

• Aoyama Hajime

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• 田上 政由

  Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所

• 西岡 岳

  (株)東芝セミコンダクター社

• 大岩 徳久

  東芝セミコンダクター社

• 渡邉 桂

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 中村 直文

  株式会社 半導体先端テクノロジーズ

• 坂田 敦子

  (株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター

• 松永 範昭

  (株)東芝セミコンダクタ一社

• 松永 範昭

  (株)東芝 セミコンダクター社

• 豊田 啓

  Toshiba Nanoanalysis Corpration

• 小島 章弘

  (株)東芝 半導体研究開発センター

• 島田 美代子

  (株)東芝 半導体研究開発センター

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著作論文

• 短TATシリル化ポーラス・シリカ(k=2.1)を用いた32nmノード対応Ultralow-k/Cuデュアルダマシン配線技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• 多層銅配線とハイブリッドLow-k構造(porous-PAr/porous-SiOC(k=2.3/2.3)を用いた密着性の研究と密着性エネルギーの改善(配線・実装技術と関連材料技術)
• Tiバリア表面窒化プロセスによる低抵抗・高信頼性Cu配線の開発(配線・実装技術と関連材料技術)
• 一括後抜きプロセスを用いた低コストエアギャップ配線技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• ポーラス Low-k/Cu 配線におけるダメージ修復技術
• 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術における low-k 絶縁膜技術
• 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術におけるlow-k絶縁膜技術
• 吸湿によるヴィア不良のメカニズム及び45nm世代多層配線デザインへの影響(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
• 45nm node 向け塗布ポーラス low-k 膜の材料設計
• EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシンインテグレーションの基礎検討(配線・実装技術と関連材料技術)

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