島田 美代子 | (株)東芝 半導体研究開発センター
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概要
関連著者
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島田 美代子
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島田 美代子
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Necエレクトロニクス株式会社
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(株)東芝 材料・デバイス研究所
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臼井 孝公
株式会社東芝セミコンダクター社 半導体研究開発センター
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(株)東芝セミコンダクター社
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林 裕美
(株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター
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杉崎 吉昭
(株)東芝 研究開発センター デバイスプロセス開発センター
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小島 章弘
(株)東芝 半導体研究開発センター
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秋元 陽介
(株)東芝 半導体研究開発センター
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富澤 英之
(株)東芝 半導体研究開発センター
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小幡 進
(株)東芝 生産技術センター
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古山 英人
(株)東芝 半導体研究開発センター
著作論文
- Ultra Low-k 膜(k=2.0)及び選択的バリア層CuSiNを適用した32nm世代向けCu配線技術
- 45nm node 向け塗布ポーラス low-k 膜の材料設計
- 白色LED向け高放熱性ウエーハレベル・チップスケール・パッケー・ジの開発(配線・実装技術と関連材料技術)