曽田 栄一 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ

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概要

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関連著者

• 曽田 栄一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 斎藤 修一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 隣 真一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 小田 典明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 中村 直文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  半導体先端テクノロジーズ

• 近藤 誠一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 窪田 壮男

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 中尾 慎一

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 冨岡 和弘

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 野川 潤

  NECエレクトロニクス(株)

• 川島 由嗣

  NECエレクトロニクス(株)

• 林 遼

  NECエレクトロニクス(株)

• 側瀬 聡文

  東芝株式会社

• 田中 博文

  三井化学

• 塩原 守雄

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 隣 真一

  半導体先端テクノロジーズ

• 木下 啓藏

  半導体先端テクノロジーズ

• 中山 高博

  アルバック

• 高村 一夫

  三井化学

• 平川 正明

  アルバック

• 曽田 栄一

  半導体先端テクノロジーズ

• 清野 豊

  産業総合研究所

• 秦 信宏

  産業総合研究所

• 吉川 公麿

  広島大学

• 斎藤 修一

  半導体先端テクノロジーズ

• 青山 肇

  技術研究組合超先端電子技術開発機構(aset)超微細sr露光技術研究室(pxl研究室)

• 木下 啓蔵

  NEC

• 吉川 公麿

  広島大学:産業総合研究所

• 森 一朗

  (株)半導体先端テクノロジーズ

• 細井 信基

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 側瀬 聡文

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 青山 肇

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 田中 雄介

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 河村 大輔

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 垂水 喜明

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 森 一朗

  株式会社半導体先端テクノロジーズ

• 細井 信基

  日本電気株式会社先端デバイス開発本部

• Aoyama Hajime

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Kikkawa Takamaro

  Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And

• 木下 啓蔵

  半導体先端テクノロジーズ

• Kikkawa Takamaro

  Millenium Research For Advanced Information Technology (mirai)-asrc Aist

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著作論文

• 短TATシリル化ポーラス・シリカ(k=2.1)を用いた32nmノード対応Ultralow-k/Cuデュアルダマシン配線技術(配線・実装技術と関連材料技術)
• 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
• 代替フロン(CF3I)を用いたLow-k膜エッチング技術 (全冊特集 新材料の導入と半導体製造装置)
• EUVリソグラフィーを用いた70nmピッチCu/ポーラス低誘電率膜デュアルダマシンインテグレーションの基礎検討(配線・実装技術と関連材料技術)

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