木下 啓蔵 | NEC
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概要
関連著者
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木下 啓蔵
NEC
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木下 啓蔵
半導体先端テクノロジーズ
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NECシステムデバイス研究所
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林 喜宏
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Advanced Semiconductor Research Center (asrc) National Institute Of Advanced Industrial Science And
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Kikkawa Takamaro
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NECエレクトロニクス株式会社
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高村 一夫
三井化学
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秦 信宏
産業総合研究所
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川原 潤
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石川 彰
半導体MIRAI-ASET
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半導体MIRAI-ASET
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半導体MIRAI-ASET
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後藤 隆
半導体MIRAI-ASET
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半導体MIRAI-産総研ASRC
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市川 理恵
半導体MIRAI-産総研ASRC
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三好 秀典
半導体MIRAI-ASET
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松尾 尚典
半導体MIRAI-ASET
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吉川 公麿
半導体MIRAI-産総研ASRC
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半導体mirai-asrc-aist
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多田 宗弘
NECデバイスプラットフォーム研究所
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関根 誠
名大
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大竹 浩人
東北大
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高田 省三
半導体mirai-asrc-aist
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林 喜宏
日本電気株式会社
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松尾 尚典
技術研究組合 超先端電子技術開発機構半導体MIRAIプロジェクト
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豊田 浩孝
名古屋大学大学院工学研究科電気工学専攻
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豊田 浩孝
名大
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田上 政由
Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所
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吉野 雄信
広島大 ナノデバイス・システム研セ
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小田 昭紀
名古屋工業大学
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節原 裕一
阪大溶接研
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隣 真一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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曽田 栄一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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斎藤 修一
株式会社半導体先端テクノロジーズ
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畠山 力三
東北大院工
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金子 俊郎
東北大院工
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神谷 利夫
東工大応セラ研
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多田 宗弘
NECシステムデバイス研究所
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小野寺 貴弘
NECシステムデバイス研究所
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川原 潤
NECシステムデバイス研究所
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大竹 浩人
日本電気株式会社システムデバイス研究所
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田上 政由
日本電気株式会社システムデバイス研究所
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多田 宗弘
日本電気株式会社システムデバイス研究所
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原田 恵充
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小野寺 貴弘
日本電気株式会社システムデバイス研究所
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古武 直也
日本電気株式会社システムデバイス研究所
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林 喜宏
日本電気株式会社システムデバイス研究所
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原田 恵充
NECシステムデバイス研究所
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田上 政由
NECシステムデバイス研究所
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太田 貴之
和歌山大学
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菅井 秀郎
中部大学工学部
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一木 隆範
東大院・工・バイオエンジニアリング
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土澤 泰
Nttマイクロシステムインテグレーション研究所
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吉村 智
阪大超高温
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野崎 智洋
東京工業大学
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辰巳 哲也
ソニー(株)半導体事業本部セミコンダクターテクノロジー開発部門
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辰巳 哲也
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室
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菅原 広剛
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埼玉大
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白谷 正治
九大院システム情報
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中部大学
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Park Chon-Yun
成均館大理
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林 信哉
佐賀大学理工学部
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菅井 秀郎
名古屋大学工学部
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豊田 浩孝
名古屋大学
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野崎 智洋
東工大
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中村 圭二
中部大学工学部
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隣 真一
半導体先端テクノロジーズ
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木下 啓藏
半導体先端テクノロジーズ
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中山 高博
アルバック
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平川 正明
アルバック
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曽田 栄一
半導体先端テクノロジーズ
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吉川 公麿
広島大学
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斎藤 修一
半導体先端テクノロジーズ
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中村 圭二
中部大
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江利口 浩二
京大工
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国見 信孝
半導体MIRAI-ASET
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足立 三郎
半導体MIRAI-ASET
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奥 良彰
半導体MIRAI-ASET
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山田 和弘
半導体MIRAI-ASET
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高村 一夫
半導体MIRAI-ASET
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藤井 宣年
半導体MIRAI-ASET
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秦 信宏
半導体MIRAI-ASRC-AIST
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根来 千絵
半導体MIRAI-ASRC-AIST
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大池 俊輔
半導体MIRAI-ASET
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田中 博文
半導体MIRAI-ASET
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永津 雅章
静大工
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菅井 秀郎
名古屋大学大学院工学研究科
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長谷川 明広
富士通株式会社
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永津 雅章
静岡大学創造科学技術大学院
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明石 治朗
防衛大学校
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豊田 浩孝
名大工
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大岩 徳久
東芝
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中石 雅文
富士通
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中村 敏浩
京大
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中川 秀夫
パナソニック
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檜森 慎司
東京エレクトロン
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小田 昭紀
名工大
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菅原 広剛
北大
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平田 孝道
都市大
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佐野 紀彰
京大
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古閑 一憲
九大
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白藤 立
名大
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米倉 和賢
ルネサス
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森川 康宏
アルバック
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根岸 伸幸
日立
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高橋 和生
京都工芸繊維大
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秋元 健司
NEC
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奥村 智洋
パナソニック
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上坂 裕之
名大
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佐藤 孝紀
室蘭工大
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布村 正太
産総研
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柳生 義人
佐世保高専
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節原 裕一
国立大学法人大阪大学接合科学研究所
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節原 裕一
阪大レーザー研
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江利口 浩二
京都大学大学院工学研究科
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一木 隆範
東洋大学・工
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白井 肇
埼玉大学大学院 理工学研究科 機能材料工学専攻
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辰巳 哲也
ソニー
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林 信哉
佐賀大学
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林 信哉
佐賀大
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畠山 力三
東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
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佐藤 孝紀
室蘭工業大学
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Kohara Takao
Basic Research Laboratory Himeji Institute Of Technology
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Kaneko Tetsuyuki
Department Of Material Physics Faculty Of Engineering Science Osaka University
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長谷川 明広
富士通
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根岸 伸幸
日立製作所中央研究所
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柳生 義人
佐世保工業高等専門学校
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古閑 一憲
九大総理工
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白谷 正治
九大
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吉村 智
阪大
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土澤 泰
Ntt
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Kanomata T
Tohoku Univ. Sendai
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Kanbe Takafumi
Department Of Physical Sciences Graduate School Of Science Hiroshima University
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上坂 裕之
名大院工機械
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Kaneko T
Tohoku Univ. Sendai
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Kanomata T
Institute For Materials Research Tohoku University
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金子 俊郎
東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
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江利口 浩二
京大
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廣井 政幸
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
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斎藤 忍
日本電気株式会社シリコンシステム研究所
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木下 啓蔵
NECシステムデバイス基礎研究本部
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宇佐美 達也
NEC先端デバイス開発本部
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廣井 政幸
NECシステムデバイス基礎研究本部
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利根川 丘
NEC先端デバイス開発本部
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柴 和利
NEC先端デバイス開発本部
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斎藤 忍
NECシステムデバイス基礎研究本部
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川原 潤
NECシリコンシステム研究所
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木下 啓蔵
NECシリコンシステム研究所
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斉藤 忍
NECシリコンシステム研究所
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小野寺 貴弘
NECシリコンシステム研究所
-
高橋 宗司
NECシリコンシステム研究所
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細川 雅則
名古屋大学
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福手 隆仁
名古屋大学
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野田 周一
超先端電子技術開発機構
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彦坂 幸信
超先端電子技術開発機構
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木下 啓蔵
超先端電子技術開発機構
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関根 誠
超先端電子技術開発機構
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菅井 秀郎
名古屋大学大学院
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太田 貴之
和歌山大
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金子 俊郎
東北大・工
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Kanomata Takeshi
The Research Institute For Iron Steel And Metals Tohoku University
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古閑 一憲
九州大学
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明石 治朗
防衛大
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永津 雅章
静岡大学・創造科学技術大学院
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一木 隆範
東大
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一木 隆範
東京大学大学院工学系研究科バイオエンジニアリング専攻
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神谷 利夫
東工大
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林 信哉
佐賀大学大学院工学系研究科
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Kobayashi T
College Of Liberal Arts Kobe University
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古武 直也
Necエレクトロニクス株式会社lsi基礎開発研究所
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Kanomata T
Faculty Of Engineering Tohoku Gakuin University
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畠山 力三
東北大 工
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Kaneko T
Tohoku Univ. Sendai Jpn
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一木 隆範
東大 大学院工学系研究科
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Kaneko Takejiro
The Research Institute For Iron Stee And Other Metals Tohoku University
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白谷 正治
九州大学
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布村 正太
産業技術総合研究所
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林 喜宏
Necエレクトロニクス株式会社 Lsi基礎開発研究所
-
一木 隆範
東京大学 大学院工学系研究科 バイオエンジニアリング専攻
-
林 喜宏
ルネサスエレクトロニクス先行研究統括部
著作論文
- 高空孔率(50%)高強度(9GPa)自己組織化ポーラスシリカ膜を用いた32nmノードLSI向け超低誘電率膜(k=2.1)Cuダマシン多層配線(配線・実装技術と関連材料技術)
- A New Plasma-Enhanced Co-Polymerization (PCP) Technology for Reinforcing Mechanical Properties of Organic Silica Low-k/Cu Interconnects on 300 mm Wafers(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- 自己集合体化技術を用いた超低誘電率多孔質シリカ膜(低誘電率層間膜,配線材料及び一般)
- プラズマ・プロセス技術
- RFバイアス光プローブ法を用いた電子エネルギー分布関数の測定
- Low-k材料とエッチング技術 (特集 半導体製造工程を変革する新プロセス技術) -- (最新トピックス1 新プロセス/新材料の導入)
- プラズマ重合法によるLow-k有機高分子膜成長技術とその応用( : 低誘電率層間膜及び配線技術)
- 低誘電率有機膜を用いたCuダマシン多層配線プロセス設計とその実証
- プラズマ重合BCB膜成長技術と銅ダマシン配線への適用