節原 裕一 | 国立大学法人大阪大学接合科学研究所

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概要

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関連著者

• 節原 裕一

  国立大学法人大阪大学接合科学研究所

• 節原 裕一

  大阪大学接合科学研究所

• SETSUHARA Yuichi

  Osaka University

• 三宅 正司

  大阪大学接合科学研究所

• MIYAKE Shoji

  Osaka University

• 三宅 正司

  近畿大学リエゾンセンター

• SETSUHARA Yuichi

  Joining and Welding Research Institute, Osaka University

• 節原 裕一

  大阪大学

• 関根 誠

  名古屋大学

• 関根 誠

  名大

• MIYAKE Shoji

  Joining and Welding Research Institute, Osaka University

• KUMAGAI Masao

  Kanagawa Industrial Technology Research Institute

• 熊谷 正夫

  神奈川高度技術支援財団

• 白谷 正治

  九州大学大学院システム情報科学研究院

• 三宅 正司

  大阪大学

• 高橋 和生

  京都工芸繊維大

• 節原 裕一

  京都大学大学院 工学研究科

• 熊谷 正夫

  神奈川産技セ

• MAKINO Yukio

  Osaka University

• 節原 裕一

  阪大接合研

• 熊谷 正夫

  神奈川産総研

• 竹中 弘祐

  阪大接合研

• EBE Akinori

  EMD Corp.

• 鈴木 操

  神奈川高度技術支援財団

• 堀 勝

  名古屋大学

• 藤田 雅之

  レーザー技術総合研究所

• SHOJI Tadayoshi

  Department of Electronics, Tohoku Institute of Technology

• 斧 高一

  京都大学大学院工学研究科

• 高橋 和生

  京都大学大学院工学研究科

• 斧 高一

  京大 大学院工学研究科

• 斧 高一

  京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻

• 白谷 正治

  九大

• 三宅 正司

  阪大接合研

• ONO Katsuji

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• 鈴木 常生

  阪大接合研

• Ono K

  Department Of Applied Chemistry The University Of Tokyo

• Ono K

  Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation:(present Address)department Of Ae

• Ono K

  Univ. California Ca Usa

• 張 津秋

  大阪大学

• Shimizu Isao

  Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.

• HAYASHI Tsukasa

  Nissin Electric Co.

• KAMAI Masayoshi

  Osaka University

• Shoji T

  Department Of Electronics Tohoku Institute Of Technology

• Hayashi Tsukasa

  Nissin Electric Co. Ltd R&d Laboratories

• Tanaka Yris

  阪大接合研

• Shimizu I

  Osaka Univ. Osaka Jpn

• OGATA Kiyoshi

  Nissin Electric Co., Ltd. Process Research Center R&D Laboratories

• MUSIL Jindrich

  Department of Physics, University of West Bohemia

• 江部 明憲

  (株)イー・エム・ディー

• KUBOTA Kiyoshi

  Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories

• TAKENAKA Kosuke

  Joining and Welding Research Institute, Osaka University

• 坂和 洋一

  阪大レーザー研

• 小田 昭紀

  名古屋工業大学

• 庄司 多津男

  名大工

• 節原 裕一

  阪大溶接研

• 三宅 正司

  阪大溶接研

• 畠山 力三

  東北大院工

• 金子 俊郎

  東北大院工

• 神谷 利夫

  東工大応セラ研

• 太田 貴之

  和歌山大学

• 一木 隆範

  東大院・工・バイオエンジニアリング

• 井澤 友策

  大阪大学 レーザーエネルギー学研究センター

• 井澤 友策

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 藤田 雅之

  財団法人レーザー技術総合研究所

• 藤田 雅之

  (財)レーザー技術総合研究所

• 井澤 靖和

  大阪大学レーザーエネルギー学研究センター

• 土澤 泰

  Nttマイクロシステムインテグレーション研究所

• 吉村 智

  阪大超高温

• 野崎 智洋

  東京工業大学

• 辰巳 哲也

  ソニー(株)半導体事業本部セミコンダクターテクノロジー開発部門

• 辰巳 哲也

  技術研究組合 超先端電子技術開発機構 プラズマ技術研究室

• 庄司 多津男

  名古屋大学大学院工学研究科

• 菅原 広剛

  北海道大学

• 白井 肇

  埼玉大

• 白谷 正治

  九大院システム情報

• 姜 文圭

  Faculty of Science and Engineering, Kinki University

• 中村 圭二

  中部大学

• Park Chon-Yun

  成均館大理

• 坂和 洋一

  名古屋大学工学研究科エネルギー理工学専攻

• 林 信哉

  佐賀大学理工学部

• 井澤 靖和

  大阪大学・レーザー核融合研究センター

• 井澤 靖和

  大阪大学 レーザー核融合センター

• 姜 文圭

  近畿大学理工学部

• 野崎 智洋

  東工大

• 姜 文圭

  近畿大学

• 中村 圭二

  中部大学工学部

• 中村 圭二

  中部大

• MORI Hirotaro

  Research Center for Ultrahigh Voltage Electron Microscopy, Osaka University

• 江利口 浩二

  京大工

• 永津 雅章

  静大工

• 長谷川 明広

  富士通株式会社

• 永津 雅章

  静岡大学創造科学技術大学院

• 明石 治朗

  防衛大学校

• 橋田 昌樹

  京大化研:京大院理

• 豊田 浩孝

  名大工

• 大岩 徳久

  東芝

• 中石 雅文

  富士通

• 中村 敏浩

  京大

• 中川 秀夫

  パナソニック

• 檜森 慎司

  東京エレクトロン

• 小田 昭紀

  名工大

• 菅原 広剛

  北大

• 平田 孝道

  都市大

• 佐野 紀彰

  京大

• 木下 啓蔵

  NEC

• 古閑 一憲

  九大

• 白藤 立

  名大

• 米倉 和賢

  ルネサス

• 森川 康宏

  アルバック

• 根岸 伸幸

  日立

• 秋元 健司

  NEC

• 奥村 智洋

  パナソニック

• 上坂 裕之

  名大

• 佐藤 孝紀

  室蘭工大

• 布村 正太

  産総研

• 柳生 義人

  佐世保高専

• 大竹 浩人

  東北大

• 節原 裕一

  阪大レーザー研

• 江利口 浩二

  京都大学大学院工学研究科

• 一木 隆範

  東洋大学・工

• 白井 肇

  埼玉大学大学院 理工学研究科 機能材料工学専攻

• 辰巳 哲也

  ソニー

• 林 信哉

  佐賀大学

• 林 信哉

  佐賀大

• 畠山 力三

  東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻

• 佐藤 孝紀

  室蘭工業大学

• Shimizu Ippei

  Joining And Welding Research Institute Osaka University

• 志水 一平

  三菱電機株式会社

• Kohara Takao

  Basic Research Laboratory Himeji Institute Of Technology

• Kaneko Tetsuyuki

  Department Of Material Physics Faculty Of Engineering Science Osaka University

• 長谷川 明広

  富士通

• Ono Koichi

  Department of Molecular and Internal Medicine, Graduate School of Biomedical Sciences, Hiroshima Uni

• 志水 一平

  大阪大学接合科学研究所

• 齋藤 英純

  神奈川高度技術支援財団

• 熊谷 正夫

  神奈川県産業技術総合研究所

• NUMATA Ken

  Kanagawa High-Technology Foundation

• 根岸 伸幸

  日立製作所中央研究所

• 柳生 義人

  佐世保工業高等専門学校

• Takahashi Kazuo

  Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University

• 芝崎 靖雄

  名古屋工業技術研究所

• 釜井 正善

  大阪大学接合科学研究所

• 古閑 一憲

  九大総理工

• 吉村 智

  阪大

• 佐野 三郎

  産業技術総合研究所 セラミックス研究部門

• 斎藤 英純

  神奈川高度技術支援財団

• 佐野 三郎

  名古屋工業技術研究所

• 土澤 泰

  Ntt

• 堀 勝

  名古屋大学大学院工学研究科附属プラズマナノ工学研究センター

• Kanomata T

  Tohoku Univ. Sendai

• 豊田 浩孝

  名古屋大学大学院工学研究科電気工学専攻

• 豊田 浩孝

  名大

• Kanbe Takafumi

  Department Of Physical Sciences Graduate School Of Science Hiroshima University

• 釜井 正善

  大阪大学 接合科学研究所

• 上坂 裕之

  名大院工機械

• Kaneko T

  Tohoku Univ. Sendai

• Kanomata T

  Institute For Materials Research Tohoku University

• SAKATA Takao

  Research Center for Ultra-high Voltage Electron Microscopy, Osaka University

• 小田 喜一

  名古屋工業技術研究所

• 白谷 正治

  九州大学 大学院システム情報科学研究院

• 馬場 創

  大阪大学大学院工学研究科

• 金子 俊郎

  東北大学 大学院工学研究科 電子工学専攻

• 江利口 浩二

  京大

• 小泉 憲一

  セラミックス水可塑成形技術研究組合

• ABE Nobuyuki

  Osaka University

• 瀬渡 直樹

  近畿大学

• 太田 貴之

  和歌山大

• 三田村 崇司

  京都大学大学院 工学研究科

• 金子 俊郎

  東北大・工

• 橋田 昌樹

  (財)レーザー技術総合研究所

• 熊谷 正夫

  神奈川県産業技術センター

• Kanomata Takeshi

  The Research Institute For Iron Steel And Metals Tohoku University

• 古閑 一憲

  九州大学

• 明石 治朗

  防衛大

• SAITOU Hidenori

  Kanagawa High-Technology Foundation

• HE Jianli

  Osaka University

• SHIMIZU Ippei

  Osaka University

• TAKAHASHI Eiji

  Nissin Electric Co., Ltd. Process Research Center R&D Laboratories

• KONUMA Seiji

  Kanagawa Academy of Science and Technology (KAST)

• Kyoh Bunkei

  Faculty Of Science And Engineering Kinki University

• 永津 雅章

  静岡大学・創造科学技術大学院

• VLCEK Jaroslav

  Department of Physics, University of West Bohemia

• ZEMAN Petr

  Department of Physics, University of West Bohemia

• SETSUHARA Yuichi

  Department of Aeronautics and Astronautics, Graduate School of Engineering, Kyoto University

• MITTERER Christian

  Department of Physical Metallurgy and Materials Testing, University of Leoben

• Fujita Masayuki

  New Materials Research Center Sanyo Electric Co.

• Fujita Masayuki

  Yokohama National University Department Of Electrical And Computer Engineering

• 一木 隆範

  東大

• 一木 隆範

  東京大学大学院工学系研究科バイオエンジニアリング専攻

• 神谷 利夫

  東工大

• NISHIGAMI Yasuaki

  Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories

• TOMYO Atsushi

  Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories

• FUJIWARA Masaki

  Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories

• KAKI Hirokazu

  Nissin Electric Co., Ltd, R&D Laboratories

• NISHISAKA Kazuaki

  EMD Corporation

• SUGIURA Shinya

  Department of Engineering, Kyoto University

• DEGUCHI Hiroshige

  Nissin Electric Co., Ltd., R&D Laboratories

• YONEDA Hitoshi

  Nissin Electric Co., Ltd., R&D Laboratories

• KATO Kenji

  Nissin Electric Co., Ltd., R&D Laboratories

• 節原 裕一

  大阪大学 接合科学研究所

• NISHIMIYA Nobuyuki

  Toyohashi University of Technology

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著作論文

• 低インダクタンス内部アンテナを用いた大口径誘導結合RFプラズマ生成
• プラズマ・プロセス技術
• イオンビーム支援蒸着法を用いたCeO_2薄膜合成におけるモルフォロジーに及ぼすイオン照射効果
• フェムト秒レーザーを用いた半導体微細加工
• ヘリコン波励起プラズマスパッタリングによるCN_x薄膜合成
• 誘導結合型フルオロカｰボンプラズマを用いた高誘電率HfO_2薄膜のエッチング
• プラズマCVDと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low-K薄膜の作成
• 低インダクタンス内部アンテナを用いたプラズマ源の開発と反応性プラズマプロセスへの展開 (小特集 実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新--平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ)
• 327 イオンビーム支援蒸着法によるc-BN薄膜の合成
• 326 c-BN薄膜合成におけるイオンビームを用いた界面制御
• Effects of Ion-Beam-Irradiation on Morphology and Densification of CeO_2 Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition
• Mechanical Property of Dissimilar Material Nanocomposites Prepared by Ion Beam Assisted Sputtering Process(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
• Morphology and Microstructure of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings
• 研究開発の効率を飛躍的に高めるコンビナトリアルプラズマ解析装置 (特集 プラズマ技術の新しい挑戦)
• 4. マルチ低インダクタンス内部アンテナを用いた次世代メートル級大面積プロセスに向けたプラズマ生成制御技術(プラズマと電磁波の相互作用の新規応用 : 空間的・時間的デザインが拓く新機能)
• 21406 マルチアンテナ型RFプラズマによるメートル級大面積での低ダメージプロセスと制御(基調講演,デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
• Characterization of ion energy distribution in inductively coupled argon plasmas sustained with multiple internal-antenna units (Special issue: Dry process)
• Large-Area and High-Speed Deposition of Microcrystalline Silicon Film by Inductive Coupled Plasma using Internal Low-Inductance Antenna
• Characterization of Inductively-Coupled RF Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Units
• Effects of Antenna Size and Configurations in Large-Area RF Plasma Production with Internal Low-Inductance Antenna Units
• メートルサイズの大面積プロセスに向けたプラズマ技術
• 次世代メートルサイズ大面積プロセス用プラズマ源
• フェムト秒レーザーによる物質プロセッシング
• Zr-based Hydrogen Absorbing Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
• プラズマ源の開発
• ミリ波によるセラミックス加熱・焼結 (特集 セラミックス電磁プロセシングの動向)
• 酸化物薄膜創成におけるミラー型ECRプラズマに及ぼすRFバイアス効果
• 6.低インダクタンス内部アンテナを用いたプラズマ源の開発と反応性プラズマプロセスへの展開(実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新〜平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ〜)
• Properties of (Ti, Al) N films prepared by ion beam assisted deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)
• Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)
• Studies on Magnetron Sputtering Assisted by Inductively Coupled RF Plasma for Enhanced Metal Ionization
• Use of Focused High-Power 60-GHz Radiation Beams for Advanced Sintering of Ceramics(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
• Influence of Ion Irradiation on Crystalline Phases of Oxide Films(Materials, Metallurgy & Weldability)
• Ti-Al Alloy Films Synthesized by Ion-Beam-Enhanced Deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)
• 泥しょう鋳込み法により作製したZrO_2-3mol%Y_2O_3成形体のマイクロ波焼結
• 336 誘導結合型プラズマスパッタリングの研究
• Production of Inductively-Coupled Large-Diameter Plasmas with Internal Antenna
• 342 マイクロ波を利用したセラミックス焼結の研究
• フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ-ソフトマテリアル相互作用の解析
• 表面機能化プロセス
• プラズマ異方性化学気相堆積法による硬質カーボン薄膜の低温製膜 (特集 革新的プラズマ科学の新潮流)
• フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマーソフトマテリアル相互作用の解析
• スマートプロセス学会 表界面プロセス部会
• イオン・プラズマプロセスによる硼素,炭素,窒素系超硬質薄膜の合成
• イオン照射を利用した成膜プロセスの評価法
• 234 ヘリコンプラズマスパッタリングによるCN_x薄膜合成

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