誘導結合型フルオロカｰボンプラズマを用いた高誘電率HfO_2薄膜のエッチング
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概要
著者
-
高橋 和生
京都工芸繊維大
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節原 裕一
国立大学法人大阪大学接合科学研究所
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斧 高一
京都大学大学院工学研究科
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高橋 和生
京都大学大学院工学研究科
-
斧 高一
京大 大学院工学研究科
-
斧 高一
京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻
-
ONO Katsuji
Fujitsu Laboratories Ltd.
-
Ono K
Department Of Applied Chemistry The University Of Tokyo
-
Ono K
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation:(present Address)department Of Ae
-
Ono K
Univ. California Ca Usa
-
節原 裕一
京都大学大学院 工学研究科
-
Ono K
The Faculty Of Engineering Ehime University
-
斧 高一
京都大学大学院 工学研究科
-
高橋 和生
京都大学大学院 工学研究科
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