高橋 和生 | 京都大学大学院 工学研究科

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概要

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関連著者

• 高橋 和生

  京都大学大学院工学研究科

• 斧 高一

  京都大学大学院 工学研究科

• 高橋 和生

  京都大学大学院 工学研究科

• 高橋 和生

  京都工芸繊維大

• 斧 高一

  京都大学大学院工学研究科

• 斧 高一

  京大 大学院工学研究科

• 斧 高一

  京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻

• ONO Katsuji

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Ono K

  Department Of Applied Chemistry The University Of Tokyo

• Ono K

  Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation:(present Address)department Of Ae

• Ono K

  Univ. California Ca Usa

• 節原 裕一

  京都大学大学院 工学研究科

• Ono K

  The Faculty Of Engineering Ehime University

• 節原 裕一

  国立大学法人大阪大学接合科学研究所

• 江利口 浩二

  京都大学大学院工学研究科

• 江利口 浩二

  京大

• 三田村 崇司

  京都大学大学院 工学研究科

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著作論文

• 4.高誘電率(High-k)材料のドライエッチング(ドライエッチングの科学と技術の新局面)
• 誘導結合型フルオロカｰボンプラズマを用いた高誘電率HfO_2薄膜のエッチング
• プラズマCVDと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low-K薄膜の作成
• 誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜のエッチング

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