斧 高一 | 京都大学大学院 工学研究科
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概要
関連著者
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斧 高一
京都大学大学院 工学研究科
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斧 高一
京都大学大学院工学研究科
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ONO Katsuji
Fujitsu Laboratories Ltd.
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Ono K
Department Of Applied Chemistry The University Of Tokyo
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Ono K
Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation:(present Address)department Of Ae
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Ono K
Univ. California Ca Usa
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Ono K
The Faculty Of Engineering Ehime University
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斧 高一
京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻
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斧 高一
京大 大学院工学研究科
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高橋 和生
京都大学大学院工学研究科
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高橋 和生
京都大学大学院 工学研究科
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高橋 和生
京都工芸繊維大
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江利口 浩二
京都大学大学院工学研究科
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江利口 浩二
京大
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節原 裕一
京都大学大学院 工学研究科
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節原 裕一
国立大学法人大阪大学接合科学研究所
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鷹尾 祥典
京都大学大学院工学研究科
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鷹尾 祥典
京都大学
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三田村 崇司
京都大学大学院 工学研究科
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福田 武司
大阪大学大学院工学研究科
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福田 武司
大阪大学
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松田 朝彦
京都大学
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中久保 義則
京都大学大学院工学研究科
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松田 朝彦
京都大学大学院工学研究科
-
中久保 義則
京都大学
著作論文
- 2.ドライエッチングのモデルとその実験検証(ドライエッチングの科学と技術の新局面)
- 4.高誘電率(High-k)材料のドライエッチング(ドライエッチングの科学と技術の新局面)
- 1.はじめに(ドライエッチングの科学と技術の新局面)
- 8.おわりに(ドライエッチングの科学と技術の新局面)
- 第58回気体エレクトロニクス会議(58th Gaseous Electronics Conference)
- 誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率HfO_2薄膜のエッチング
- 半導体プラズマプロセスシミュレーションとTCAD
- プラズマCVDと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low-K薄膜の作成
- Si ドライエッチング技術
- 誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜のエッチング
- 電気的手法を用いた物理的Si基板ダメージのプラズマプロセス依存性の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
- マイクロプラズマスラスターの研究開発
- 宇宙マイクロ・ナノ工学とシリコンナノサテライト連携研究計画