中久保 義則 | 京都大学

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概要

• 中久保 義則の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 京都大学の論文著者

関連著者

• Ono K

  Department Of Applied Chemistry The University Of Tokyo

• 鷹尾 祥典

  京都大学

• 中久保 義則

  京都大学

• 斧 高一

  京都大学

• 江利口 浩二

  京都大学

• 松田 朝彦

  京都大学

• 斧 高一

  京都大学大学院工学研究科

• ONO Katsuji

  Fujitsu Laboratories Ltd.

• Ono K

  Advanced Technology R&d Center Mitsubishi Electric Corporation:(present Address)department Of Ae

• Ono K

  Univ. California Ca Usa

• 江利口 浩二

  京大

• Ono K

  The Faculty Of Engineering Ehime University

• 中久保 義則

  京都大学大学院工学研究科

• 鷹尾 祥典

  京都大学大学院工学研究科

• 江利口 浩二

  京都大学大学院工学研究科

• 松田 朝彦

  京都大学大学院工学研究科

• 斧 高一

  京都大学大学院 工学研究科

• 亀井 政幸

  京都大学

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著作論文

• 電気的手法を用いた物理的Si基板ダメージのプラズマプロセス依存性の検討(プロセス科学と新プロセス技術)
• 物理的プラズマダメージによるMOSFETバラツキ増大予測のための包括モデル(プロセス科学と新プロセス技術)
• 古典的分子動力学計算による物理的プラズマダメージ形成機構の検討 : Fin型MOSFETでの欠陥生成機構(プロセス科学と新プロセス技術)
• プラズマチャージングダメージがMOSFETのRandom Telegraph Noise特性に及ぼす影響(プロセス科学と新プロセス技術)

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