Effects of Ion-Beam-Irradiation on Morphology and Densification of CeO_2 Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 社団法人応用物理学会の論文
- 2000-07-15
著者
-
節原 裕一
国立大学法人大阪大学接合科学研究所
-
Shimizu Ippei
Joining And Welding Research Institute Osaka University
-
三宅 正司
近畿大学リエゾンセンター
-
Shimizu Isao
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.
-
SETSUHARA Yuichi
Joining and Welding Research Institute, Osaka University
-
MIYAKE Shoji
Joining and Welding Research Institute, Osaka University
-
Shimizu I
Osaka Univ. Osaka Jpn
-
SAITOU Hidenori
Kanagawa High-Technology Foundation
-
KUMAGAI Masao
Kanagawa Industrial Technology Research Institute
-
Shimizu I
The Graduate School At Nagatsuta Tokyo Institute Of Technology
-
Shimizu Isamu
Imaging Science And Engineering Laboratory Tokyo Institute Of Technology
-
Miyake Shoji
Joining & Welding Resarch Institute Osaka University
-
Kumagai M
Kanagawa Industrial Technology Research Institute
-
Kamai Masayoshi
Joining And Welding Research Institute Osaka University
-
Saitou H
Kanagawa High‐technol. Foundation Kawasaki Jpn
-
Setsuhara Yuichi
Joining And Welding Research Institute Osaka University
-
Kumagai Masao
Kanagawa High-Technology Foundation, Kanagawa Science Park, Kawasaki, Kanagawa 213, Japan
関連論文
- 低インダクタンス内部アンテナを用いた大口径誘導結合RFプラズマ生成
- 放電プラズマ焼結によるB-C系助剤を添加した炭化ケイ素の作製とそれらの機械的特性
- プラズマ・プロセス技術
- イオンビーム支援蒸着法によるHfO_2薄膜の合成
- イオンビーム支援蒸着法を用いたCeO_2薄膜合成におけるモルフォロジーに及ぼすイオン照射効果
- 28GHzミリ波加熱法により焼結された窒化ケイ素セラミックスの材料物性解析(GS10 セラミックス・腐食)
- 430 Yb_2O_3+Al_2O_3 を添加した窒化ケイ素セラミックスの高温条件下での硬度について
- 自由空間タイムドメイン法によるアルミナのミリ波誘電率測定
- 214 28GHz ミリ波加熱法により作製された窒化ケイ素セラミックスの高温硬さ測定
- 大出力28GHzミリ波加熱法による窒化珪素の低温焼結
- 234 28GHzミリ波加熱法により作製された窒化ケイ素セラミックスの機械的特性について(OS6-8 材料評価)(OS6 実験力学の新展開)
- 28GHzミリ波加熱法による窒化珪素の焼結と Yb_2O_3-Al_2O_3系新助剤の開発
- 大出カミリ波加熱法による高純度アルミナの焼結
- クロムイオンの光学吸収から見たアルミナの焼結におけるミリ波効果
- ミリ波焼結窒化ケイ素におけるYb_2O_3系助剤の役割
- フェムト秒レーザーを用いた半導体微細加工
- ミリ波加熱法によるCaO-Yb_2O_3助剤添加AlNの低温焼結
- AINのミリ波焼結における最適Yb_2O_3助剤添加量の検討
- 窒化アルミニウムのミリ波焼結における希土類酸化物助剤添加の効果
- 窒化アルミニウムのミリ波焼結における添加助剤の比較
- Yb_2O_3助剤添加AINのミリ波焼結
- ミリ波加熱法を用いたAlN焼結体作製における助剤の比較
- ミリ波照射による大気中でのFe_2O_3の還元反応
- ジャイロトロン発振ミリ波による金属の表面処理
- 29pA04P ECRマイクロ波スパッタリングにおける基板入射イオンエネルギー分布の計測(プラズマ基礎・応用)
- 高品質SrTiO_3薄膜の低温合成
- ミラー型ECRプラズマスパッタリングによるベロブスカイト型チタン酸化物薄膜合成
- ミラー閉じこめ型ECRプラズマスパッタリングによるSrTiO_3薄膜の低温合成
- ミラー型ECRプラズマスパッタリングによるSrTiO_3薄膜合成
- 225 厚板のレーザフォーミングにおける入熱分布の効果 : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第6報)
- 152 カレイドスコープを用いたフォーミング : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第5報)
- 122 厚板のレーザフオーミング : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第四報)
- 高出力半導体レーザによる厚鋼板のフォーミング
- 419 酸化チタン皮膜形成におけるビーム斜入射効果 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第 7 報)
- エアロゾルデポジッション法によるハイドロキシアパタイト皮膜形成
- 120 ビーム入射角制御によるハイドロキシアパタイトコーティング技術 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第6報)
- 406 ハイドロキシアパタイト皮膜形成のための照射条件に関する実験的検討 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第5報)
- 厚鋼板のレーザ・アーク複合高速度溶接における溶接メカニズムの解明
- 401 酸化チタン皮膜形成のための照射条件に関する実験的検討 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第4報)
- 151 高速度撮影による成膜メカニズムの検討 : 電子ビ-ムクラッディングに関する基礎的研究(第6報)
- 温度分布と曲がり角の関係高出力半導体レーザによる厚鋼板のフォーミング(第2報)
- 335 成膜パラメータと皮膜特性の関係 : 電子ビームクラッディングに関する基礎的研究(第5報)
- 329 ステンレス鋼基板上への酸化チタン皮膜形成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第三報)
- 高出力半導体レーザによる厚鋼板のフォーミング
- 超微粒子ビームによる機能性セラミックス皮膜形成
- 530 機能性セラミックスの厚膜生成 : 超微粒子ビームによる材料加工の基礎的研究(第二報)
- 453 半導体レーザによるフオーミング : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第3報)
- 高出力・高エネルギー密度半導体レーザによる薄板の高速度溶接
- 318 薄板の高速度溶接 : 2kW級高出力半導体レーザシステムによる材料加工特性の検討(第二報)
- 大電流通電加熱法によるアナターゼの緻密化と微細組織
- 電磁エネルギー加熱による各種アルミナの焼結
- 電磁エネルギー急速加熱法によるアナターゼの固化体の合成
- ヘリコン波励起プラズマスパッタリングによるCN_x薄膜合成
- 誘導結合型フルオロカｰボンプラズマを用いた高誘電率HfO_2薄膜のエッチング
- プラズマCVDと溶媒処理を用いたフルオロカーボン系多孔質構造Low-K薄膜の作成
- PZTエアロゾル堆積膜の構造変化に及ぼすミリ波ポストアニール効果 (特集 ナノレベル電子セラミックス材料低温・集積化技術)
- イオン照射によるHfO_2薄膜の構造変化
- Low Temperature Millimeter-Wave Sintering of Aluminum Nitride with Oxide Additive of CaO-Al_2O_3-Yb_2O_3 System
- Dense Nano-structured and Preferentially-oriented Anatase Synthesized by Pulsed High Current Heating
- 低インダクタンス内部アンテナを用いたプラズマ源の開発と反応性プラズマプロセスへの展開 (小特集 実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新--平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ)
- 327 イオンビーム支援蒸着法によるc-BN薄膜の合成
- 326 c-BN薄膜合成におけるイオンビームを用いた界面制御
- Effects of Ion-Beam-Irradiation on Morphology and Densification of CeO_2 Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition
- Mechanical Property of Dissimilar Material Nanocomposites Prepared by Ion Beam Assisted Sputtering Process(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- Morphology and Microstructure of Hard and Superhard Zr-Cu-N Nanocomposite Coatings
- 研究開発の効率を飛躍的に高めるコンビナトリアルプラズマ解析装置 (特集 プラズマ技術の新しい挑戦)
- 4. マルチ低インダクタンス内部アンテナを用いた次世代メートル級大面積プロセスに向けたプラズマ生成制御技術(プラズマと電磁波の相互作用の新規応用 : 空間的・時間的デザインが拓く新機能)
- 21406 マルチアンテナ型RFプラズマによるメートル級大面積での低ダメージプロセスと制御(基調講演,デバイス&配線技術2,OS.1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS),学術講演)
- Characterization of ion energy distribution in inductively coupled argon plasmas sustained with multiple internal-antenna units (Special issue: Dry process)
- Large-Area and High-Speed Deposition of Microcrystalline Silicon Film by Inductive Coupled Plasma using Internal Low-Inductance Antenna
- Characterization of Inductively-Coupled RF Plasma Sources with Multiple Low-Inductance Antenna Units
- Effects of Antenna Size and Configurations in Large-Area RF Plasma Production with Internal Low-Inductance Antenna Units
- メートルサイズの大面積プロセスに向けたプラズマ技術
- 次世代メートルサイズ大面積プロセス用プラズマ源
- フェムト秒レーザーによる物質プロセッシング
- Zr-based Hydrogen Absorbing Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- プラズマ源の開発
- ミリ波によるセラミックス加熱・焼結 (特集 セラミックス電磁プロセシングの動向)
- Tribological Property of CeO_2 Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition
- 酸化物薄膜創成におけるミラー型ECRプラズマに及ぼすRFバイアス効果
- 6.低インダクタンス内部アンテナを用いたプラズマ源の開発と反応性プラズマプロセスへの展開(実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新〜平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ〜)
- Properties of (Ti, Al) N films prepared by ion beam assisted deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)
- Helicon Wave Plasma Enhanced Sputtering and Application to Synthesis of Carbon Nitride Films(Physics, Process, Instrument & Measurements)
- Studies on Magnetron Sputtering Assisted by Inductively Coupled RF Plasma for Enhanced Metal Ionization
- Use of Focused High-Power 60-GHz Radiation Beams for Advanced Sintering of Ceramics(Physics, Processes, Instruments & Measurements)
- Influence of Ion Irradiation on Crystalline Phases of Oxide Films(Materials, Metallurgy & Weldability)
- Ti-Al Alloy Films Synthesized by Ion-Beam-Enhanced Deposition(Physics, Process, Instrument & Measurements)
- 泥しょう鋳込み法により作製したZrO_2-3mol%Y_2O_3成形体のマイクロ波焼結
- 336 誘導結合型プラズマスパッタリングの研究
- Production of Inductively-Coupled Large-Diameter Plasmas with Internal Antenna
- 342 マイクロ波を利用したセラミックス焼結の研究
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ-ソフトマテリアル相互作用の解析
- 表面機能化プロセス
- プラズマ異方性化学気相堆積法による硬質カーボン薄膜の低温製膜 (特集 革新的プラズマ科学の新潮流)
- フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマーソフトマテリアル相互作用の解析
- スマートプロセス学会 表界面プロセス部会
- イオン・プラズマプロセスによる硼素,炭素,窒素系超硬質薄膜の合成
- イオン照射を利用した成膜プロセスの評価法
- 234 ヘリコンプラズマスパッタリングによるCN_x薄膜合成
- Tribological Property of CeO2 Films Prepared by Ion-Beam-Assisted Deposition